Phase12 熱阻測(cè)試儀產(chǎn)自美國 Analysis Tech(Anatech)公司，符合美軍標(biāo)和 JEDEC 標(biāo)準(zhǔn).

      Analysis Tech Inc.成立于 1983 年，坐落于波士頓北部，是電子封裝器件可靠性測(cè)試的國際設(shè)計(jì)，制造公司。創(chuàng)始人 John W.Sofia 是美國麻省理工的博士，并且是提出焊點(diǎn)可靠性,熱阻分析和熱導(dǎo)率理論的. 發(fā)表了很多關(guān)于熱阻測(cè)試于分析，熱導(dǎo)率及焊點(diǎn)可靠性方面的. Analysis Tech Inc.在美國有獨(dú)立的實(shí)驗(yàn)室提供技術(shù)支持. 在全世界熱阻測(cè)試儀這套設(shè)備有幾百家客戶.

      主要用于測(cè)試二極管，三極管，線形調(diào)壓器，可控硅，LED，MOSFET，MESFET ,IGBT，IC 等分立功率器件的熱阻測(cè)試及分析。

在選擇微焦點(diǎn)x射線源時(shí)需考慮X射線束的視野直徑，即射線束的出射角。當(dāng)需要在小焦距下完成微焦點(diǎn)射線照相時(shí)，出射角尤其重要。如40°出射角的管頭相對(duì)于20°的管頭，當(dāng)在焦距一定，透照相同檢測(cè)面積時(shí)，需要的曝光次數(shù)較少。    焦點(diǎn)至管頭x射線窗口端面的小距離決定了被檢測(cè)物體離射線源的小距離，決定了系統(tǒng)可以得到的大幾何放大。

微焦點(diǎn)技術(shù)的優(yōu)勢(shì)

1、 通過使被透照物體靠近射線源，遠(yuǎn)離膠片，獲得放大的原始細(xì)節(jié)圖像。減輕檢測(cè)疲勞。

2、 對(duì)于一定厚度的被透照物體，微焦點(diǎn)可以放大被檢測(cè)物的細(xì)節(jié)提供更一致的清晰度。

微焦點(diǎn)x射線設(shè)備具備圖像放大，提高空間分辨力，減少散射的能力，從而使它成為工業(yè)CT系統(tǒng)的理想射線源。

X-RAY WorX GmbH是德國高科技研發(fā)型公司，研發(fā)了具有超高靈活性、超高穩(wěn)定性、超高精度的開放式微焦點(diǎn)X射線管，分為透射式微焦點(diǎn)X射線管、反射式微焦點(diǎn)X射線管、頭X射線管和棒陽極微焦點(diǎn)X射線管。可根據(jù)不同的應(yīng)用，選擇不同的靶功率（10W、15W、25W、50W、300W等）和電壓（65W、100kV、160kV、190kV、225kV、240kV和300kV等）。