公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

掩膜（MASK）：全稱單片機(jī)掩膜，是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機(jī)生產(chǎn)的過程中把程序做進(jìn)去。優(yōu)點是：程序可靠、成本低。缺點：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產(chǎn)，供貨周期長。

掩膜板是光刻圖形的基準(zhǔn)和藍(lán)本，掩膜板上:的任何缺陷都會對終圖形精度產(chǎn)生嚴(yán)重的影響。所以掩膜板必須保持“完關(guān)”。

使用掩膜板存在許多損傷來源:掩膜板掉鉻:表面擦傷，需要輕拿輕放:靜電放電(ESD)，在掩膜板夾子.上需要連一根導(dǎo)線到金屬桌面，將產(chǎn)生的靜電導(dǎo)出。光罩是光刻工藝中的一個重要環(huán)節(jié)，光刻版必須非常潔凈，所有硅片上的電路元件都來自版圖。另外，不能用手觸摸掩膜板:灰塵顆粒，在掩膜板盒打開的情況下，不準(zhǔn)進(jìn)出掩膜板室(Mask Room)，在存取掩膜板時室內(nèi)保持2人。

隨著沖版量的不斷增加和空氣中的CO2不斷溶入，顯影液中的OH-濃度會下降，pH值將越來越低，顯影時間應(yīng)慢慢變長，至后在正常曝光條件下PS版無法顯影，這就是顯影液疲勞的現(xiàn)象。但隨著顯影液pH值的降低，堿液對氧化層和涂層樹脂的腐蝕力下降，版材的網(wǎng)點再現(xiàn)性及耐印力比用新配制的顯影液好一些。光罩（英文：Reticle,Mask），在制作IC的過程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似于沖洗照片時，利用底片將影像至相片上。但必須注意兩點，一是沖版量必須控制在顯影液容許范圍內(nèi)；