在整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中，中國投入資金的就屬晶圓代工部份。具體來說，晶圓代工就是在硅晶圓上制作電路與電子元件，這個步驟為整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)復(fù)雜，且資金投入的領(lǐng)域。    以處理器為例，其所需處理步驟可達(dá)數(shù)百道，且各類加工機(jī)臺先進(jìn)又昂貴，動輒數(shù)千萬美元起跳。而一個成熟的晶圓代工廠其設(shè)備投入占總設(shè)備比重在70%～80%之間。    氧化：其目的在于生成二氧化硅薄膜。用硅作為半導(dǎo)體原材料的重要因素之一就是硅容易生長出二氧化硅膜層，這樣在半導(dǎo)體上結(jié)合一層絕緣材料，就可用做摻雜阻擋層、表面絕緣層，及元件中的絕緣部分。




 刻蝕機(jī)目前國際上主要的供應(yīng)商為應(yīng)用材料、LamResearch等。中國方面技術(shù)有慢慢追上的趨勢，即將登錄科創(chuàng)板的中微半導(dǎo)體，其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺積電(2330-TW)驗證，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。而北方華創(chuàng)則是在14nm技術(shù)有所突破。市場預(yù)估今明兩年中國刻蝕機(jī)需求分別達(dá)15億美元與20億美元。    拋光：可以使晶圓表面達(dá)到性的平坦化，以利后續(xù)薄膜沉積工序。美國應(yīng)用材料、Rtec等均為國際上主要供應(yīng)商，中國則有中電科裝備、盛美半導(dǎo)體等。但陸廠的產(chǎn)品才剛打入8寸晶圓廠中，12寸的相關(guān)設(shè)備還在研發(fā)，明顯與國際大廠有實力上的差距。市場預(yù)計今明兩年中國拋光機(jī)需求將達(dá)3.77億美元與5.11億美元。

用于金屬腐蝕標(biāo)牌的耐腐蝕油墨必須具有以下要求：易于絲網(wǎng)印刷，流變性小，無的精細(xì)油墨，圖像清晰，與板粘接牢固，耐腐蝕，腐蝕后易于去除油墨等，耐腐蝕油墨大致可分為兩種類型：絲網(wǎng)印刷防腐成像油墨;紫外成像防腐油墨。

　　1，絲網(wǎng)印刷防腐成像油墨：

　　油墨可分為三種類型：耐腐蝕性：

　　a，耐酸腐蝕;

　　b，耐堿腐蝕;

　　c，耐酸堿腐蝕。

三氯化鐵是一種共價化合物，也是目前蝕刻(腐蝕)行業(yè)針對不銹鋼US304腐蝕性價比高且廣泛使用的化學(xué)品，三氯化鐵易溶于水并且有強(qiáng)烈的吸水性，能吸收空氣里的水而潮解。FeCl3融水后帶有6個結(jié)晶水FeCl3·6H2O又稱結(jié)合水。結(jié)晶水是結(jié)合在化合物中的水分子，它們并不是液態(tài)水。很多晶體含有結(jié)晶水，但并不是所有的晶體都含有結(jié)晶水。溶質(zhì)從溶液里結(jié)晶析出時，晶體里結(jié)合著一定數(shù)目的水分子，這樣的水分子叫結(jié)晶水。在結(jié)晶物質(zhì)中，以化學(xué)鍵力與離子或分子相結(jié)合的、數(shù)量一定的水分子，如受到外界影響。例如，在逐步升溫的條件下，CuSO4·5H2O可以分步失去結(jié)晶水，依次轉(zhuǎn)變?yōu)镃uSO4·3H2O、CuSO4·H2O 、CuSO4。某些水合物在加熱時 ，可能和所含的結(jié)晶水發(fā)生水解反應(yīng)，轉(zhuǎn)變?yōu)檠趸锘驂A式鹽。