簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)膜層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色光平面波入射到光學(xué)薄膜上時，在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律給出，反射光合折射光的振幅大小則有菲涅爾公式確定。

光學(xué)薄膜根據(jù)其用途分類、特性與應(yīng)用可分為：反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補(bǔ)償膜/相位差板、配向膜、擴(kuò)散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關(guān)衍生的種類有光學(xué)級保護(hù)膜、窗膜等。

主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等，它們在國民經(jīng)濟(jì)和防建設(shè)中得到廣泛的應(yīng)用，獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍的減?。徊捎酶叻瓷淠け鹊姆瓷溏R可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學(xué)薄膜可提高硅電池的效率和穩(wěn)定性。

光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的；可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì)；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。

反射膜一般可分為兩類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜，功能是增加光學(xué)表面的反射率。金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點(diǎn)是光損大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)射膜增加了某一波長(或者某一波區(qū))的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。