溫度對微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。但是，這樣不但使電源結(jié)構(gòu)復(fù)雜化，同時也增加了控制電路的負擔(dān)，使電源成本增加。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源

微弧氧化為什么要進行預(yù)處理

      鋁、鎂、鐵等輕金屬進行微弧氧化處理，需要進行預(yù)處理，是因為長期露在空氣中表面易發(fā)生氧化，容易形成一層鈍化膜，同時，鋁、鎂、鈦等輕金屬容易吸附一些雜志，為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學(xué)性能，所以給鋁、鎂、鈦等輕金屬進行微弧氧化前進行預(yù)處理是很有必要的，是為了保證微弧氧化的效果。微弧氧化技術(shù)為提高鋁材料的表面性能，常用的方法有電鍍，激光，陽極氧化等，其中微弧氧化技術(shù)是基于陽極氧化發(fā)展起來的一種先進的表面強化處理技術(shù)。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化技術(shù)原理、微弧氧化工藝

微弧氧化技術(shù)原理

       將工件（鋁、鎂、鈦、鋯及其合金）和不銹鋼（或石墨）板置于電解質(zhì)水溶液中，工件接電源正極，不銹鋼（或石墨）板接電源負極，電源接通后工件表面發(fā)生陽極鈍化生成高阻kang氧化膜，隨著氧化膜增厚以及外加電壓的不斷增加，高電場強度使得氧化膜內(nèi)部及表面電荷積累變得嚴重。固體絕緣材料中空間電荷的存在使得原來的電場發(fā)生畸變，使局部電場加強，導(dǎo)致氧化膜擊穿，產(chǎn)生火花放電。當(dāng)氧化膜被擊穿后，就會形成基體金屬離子和溶液中活性氧離子等物質(zhì)擴散轉(zhuǎn)移的通道，基體金屬離子和氧離子，在電化學(xué)、熱化學(xué)和等離子體化學(xué)的共同作用下，生成氧化物陶瓷。還可采用不同的電解液對同一工件進行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。