影響微弧氧化的因素

（1）微弧氧化對鋁材要求不高，不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金，只要閥金屬比例占到40%以上，均可用于微弧氧化，且能得到理想膜層。

（2）表面狀態(tài)一般不需要經(jīng)過拋光處理，對于粗糙的表面，經(jīng)過微弧氧化，可修復的平整光滑；對于粗糙度低（即光滑）的表面，則會增加粗糙度。

工件材質(zhì)及表面狀態(tài)對微弧氧化會有一定的影響，所以一定要引起注意。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術

       微弧氧化產(chǎn)生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉變和結構轉變。在微弧氧化的過程下，原來生產(chǎn)的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時間的延長，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應的厚度。經(jīng)測試，微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。工件材質(zhì)及表面狀態(tài)對微弧氧化會有一定的影響，所以一定要引起注意。微弧氧化技術優(yōu)勢、微弧氧化設備、微弧氧化電源

鋁合金微弧氧化技術的特點

采用微弧氧化技術對鋁合金進行表面陶瓷化處理，其優(yōu)點如下：

1、陶瓷膜層有效提高工件性能：硬度，耐熱性，耐磨性，抗腐蝕性，絕緣性等。

2、占地小、處理能力強，生產(chǎn)。

3、無毒環(huán)保，該液體不含有毒物質(zhì)和zhong金屬，再生重復使用。

4、通過改變液體成分，可使膜層有特種性能，或得到不同顏色。

微弧氧化

       微弧氧化，是在電解質(zhì)溶液中（一般是弱堿性溶液）施加高電壓（直流、交流或脈沖）在材料表面原位生長陶瓷氧化膜的過程，該過程是物理放電與電化學氧化、等離子體氧化協(xié)同作用的結果。微弧氧化技術是在普通陽極氧化技術的基礎上發(fā)展起來的，進一步提高電壓，使電壓超出法拉第區(qū)，達到氧化膜的擊穿電壓，就會在陽極出現(xiàn)火花放電現(xiàn)象，在材料表面形成陶瓷氧化膜，使等離子體氧化膜既有陶瓷膜的，又保持了陽極氧化膜與基體的結合力。自1932年Betz等觀察到電ji穿的現(xiàn)象以來，許多研究者都對電ji穿產(chǎn)生的原因過各種各樣的假設和模型。