雙色真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)

很多人對真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)的了解不是特別全，也不知道具體是應(yīng)用到哪些行業(yè)，以及它在實(shí)際運(yùn)用過程有哪些優(yōu)缺點(diǎn)?至成真空小編現(xiàn)在詳細(xì)和大家介紹一下:

真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)其應(yīng)用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)其優(yōu)點(diǎn)是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實(shí)現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實(shí)現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

多弧離子真空鍍膜機(jī)工藝如何運(yùn)用到刀具行業(yè)

很多人對多弧離子真空鍍膜機(jī)其實(shí)并不太了解，更不了解鍍膜設(shè)備的工藝如何運(yùn)用到刀具行業(yè)，很多客戶都有這樣的疑惑，也經(jīng)常會問我們這方面的問題，特別是對真空設(shè)備的愛好者，今天至成真空小編為大家詳解介紹一下多弧離子真空鍍膜機(jī)工藝如何運(yùn)用到刀具行業(yè)。

為了滿足鍍膜制和各種多層薄膜及復(fù)合化合物薄膜的要求，多功能多弧離子鍍膜已成為目前研究發(fā)展的方向。多弧離子鍍膜設(shè)備采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光輝點(diǎn)放出的陰極物質(zhì)的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。多弧離子鍍膜采用孿生靶的先進(jìn)技術(shù)，克服直流濺射固有的打火等不良弊病，使鍍件的耐蝕性能又有所提高和改善。

多弧離子鍍膜的中心安裝柱狀多弧靶，靶材為鈦或鋯。它不但能保持多弧技術(shù)離化率高、沉積速率高的特點(diǎn)，還能有效地降低平面多弧靶沉積過程中很難避免的“液滴”的缺陷，從而可以制備出低孔隙率的金屬薄膜或化合特薄膜；在周邊安裝了孿生平面磁控靶，靶材為鋁或硅；中外，在周邊安裝多個(gè)平面多弧蒸發(fā)源，靶材為鉻或鎳，可以鍍制多層金屬膜和多層復(fù)合膜。復(fù)合式離子鍍膜設(shè)備由于具有多種不同形式鍍膜裝置及不同材質(zhì)的蒸發(fā)源及發(fā)射靶，它們既可以獨(dú)立地分別工作又可以同時(shí)工作，既能制備純金屬膜又能制備金屬化合物膜或復(fù)合材料膜；既能制備單層薄膜又能制備多層復(fù)合膜，用途極其廣泛。

真空PVD鍍膜涂層工藝有那些步驟呢?

今天至成真空小編為大家詳細(xì)介紹一下真空PVD鍍膜涂層工藝操作步驟，它的先后順序是怎樣的，有那些細(xì)節(jié)和原理是必須要了解的。

首先在處理工藝前，需要褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。鍍膜工藝，抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。后處理工藝：首先清洗環(huán)節(jié)，確保真空鍍膜機(jī)鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質(zhì)量；然后再抽真空將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走。接下來加熱烘烤，爐體和工件同時(shí)加熱，加速殘余氣體的釋放。壓升率測試，測試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗，去除工件表面的雜志，露出新鮮表面。鍍膜，沉積膜層。冷卻，避免工件氧化變色。為什么要進(jìn)行冷卻，鍍膜工藝完成后，真空室內(nèi)溫度高達(dá)500℃，如果不冷卻就放氣，沒有被鍍上膜的高溫工件表面會因?yàn)榕c空氣反應(yīng)氧化變成藍(lán)色。