曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。

干膜盡可能平整且厚度均勻。要求干膜應(yīng)具有很好的柔韌性、良好的塑性、流動(dòng)性與粘結(jié)性以確保達(dá)到無間隙貼膜。

顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序，其質(zhì)量的好與壞是整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移成功與否的重要標(biāo)志。

首先是預(yù)處理，蝕刻材料要處理干凈，絲印油墨時(shí)要保證油墨厚度適中，一般在0.12-0.14mm，當(dāng)然看每個(gè)工廠的實(shí)際情況與工藝。接下來是烘烤油墨，要控制溫度和烘烤速度，一般來說烘烤溫度控制在90℃±5℃。

滲鍍：所謂滲鍍，即是由于干膜與覆銅箔板表面粘結(jié)不牢，使鍍液深入，而造成"負(fù)相"部分鍍層變厚及鍍好的錫鉛抗蝕層，給蝕刻帶來問題。很容易造成印制電路板的報(bào)廢，是生產(chǎn)中特別要注意的要點(diǎn)。不同的消費(fèi)者喜歡的東西是不一樣的，就好比同樣是海賊王中的動(dòng)漫人物，有人喜歡路飛、而有人卻喜歡索隆、喬巴、娜美等。曝光后要檢測曝光后的圖形質(zhì)量，若有遺漏需要進(jìn)行人工補(bǔ)油補(bǔ)點(diǎn)。補(bǔ)油后需要進(jìn)行第二次烘烤。

曝光顯影是蝕刻工藝中非常重要的部分，它是圖案準(zhǔn)確度的決定性因素，因此曝光顯影管控非常重要。蝕刻加工的優(yōu)點(diǎn)主要體現(xiàn)在：產(chǎn)品沒有毛刺，大批量，密集的小孔同樣可以穩(wěn)定的批量生產(chǎn).精密度可以更高，較高管控的精度可以達(dá)到 /-0.005mm,特別適合精密薄材的不銹鋼，銅等材料的蝕刻加工，其優(yōu)點(diǎn)主要體現(xiàn)在不變形，公差要求嚴(yán).加工出的產(chǎn)品沒有毛刺、無臟污、表面光滑，蝕刻加工其他機(jī)械工藝無法加工的高精密產(chǎn)品！