鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術(shù)性，在真空泵房間內(nèi)原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進(jìn)被鍍物件的表層上。鍍膜的作用是各個(gè)方面的，這也決策了其運(yùn)用場所比較豐富。整體而言，鍍膜的關(guān)鍵作用包含授予被鍍件表層高寬比金屬質(zhì)感和鏡面玻璃實(shí)際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優(yōu)異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導(dǎo)電性實(shí)際效果。

真空鍍膜技術(shù)性被稱作發(fā)展前景的關(guān)鍵技術(shù)性之一， 鍍膜企業(yè)并已在高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的發(fā)展趨勢中展示出的行業(yè)前景。

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。薄膜的成膜過程，是一個(gè)物質(zhì)形態(tài)的轉(zhuǎn)變過程，不可避免地在成膜后的膜層中會(huì)有應(yīng)力存在，對于多層膜來說有不同膜料的組合，各膜層體現(xiàn)出的應(yīng)力是有所不同的，有的是張應(yīng)力、有的是壓應(yīng)力，還有膜層及基片的熱應(yīng)力。

輔助氣體的充入要考慮膜料的放氣，鍍前對膜料充分預(yù)熔充分放氣，也可以避免由于蒸鍍中膜料放氣造成真空度過度下降，從而影響膜強(qiáng)度。

真空鍍膜加工是利用化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。

裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。