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鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀
1. 光路形式:Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀
2. 光室恒溫:(30±0.2)℃
3. 光柵類型:離子刻蝕全息平面光柵
4. 分辨率:不大于0.007nm
5. 刻線密度:3600g/mm
6. 高頻發(fā)生器震蕩頻率:40.68MHz 功率穩(wěn)定度:0.1%(長期25℃典型值)
7. 震蕩類型:自激式
8. 進樣方式:蠕動泵進樣
配有多種霧室(旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室)
9. 霧1化器:同心霧化1器
10. 重復性:RSD ≤1.0%
11. 穩(wěn)定性:RSD ≤2.0%(2小時)
12. 冷卻氣:10-20L/min
13. 輔助氣:0-1.5 L/min
14. 載氣:0.4-1L/min
15. 尺寸:1550mm×759mm×1340mm(長×寬×高)
16. 重量:240公斤
鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)
1. 光學系統(tǒng):中階梯二維分光光學系統(tǒng),焦距400mm
2. 譜線范圍:165nm~900nm,光學分辨率:0.007nm(200nm處)
3. 光柵規(guī)格:中階梯光柵,52.67刻線/毫米,尺寸:100mm x 50mm
4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器,小巧有效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比,改善了檢出限
6. 自動匹配調(diào)節(jié)
7. 全組裝式炬管,降低了維護成本
8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵,具有快速清洗功能
9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好:重復性
RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩(wěn)定性:RSD
≤2.0%(大于3小時)
Plasma 2000 技術(shù)特點
1. 優(yōu)異的光學系統(tǒng)
2. 固態(tài)有效射頻發(fā)生器,體積更加小巧
3. 流程自動化,狀態(tài)監(jiān)控及自動保護
4. 科研級檢測器,極高的紫外量子化效率
5. 強大分析譜線
6. 信息直觀豐富
7. 多窗口多方法
8. 編輯功能強大
9. 智能譜圖標定
10. 智能干擾矯正
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鋼研納克“ICP痕量分析儀器的研制與應用”項目順利通過驗收
2016年4月12日,北京市科學技術(shù)會在鋼研納克永豐產(chǎn)業(yè)基地主持召開了國家重大科學儀器設(shè)備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”項目(項目編號2011YQ140147)初步驗收會議。
本次初步驗收會由李建玲處長主持,會議成立了項目初步驗收技術(shù)專家組,金國藩院士作為專家組組長。專家組聽取了項目及各承擔單位的匯報,審閱了相關(guān)資料,進行了現(xiàn)場檢查,經(jīng)質(zhì)詢和討論,終形成了驗收評審意見。
和專家一致認為項目驗收材料齊全、規(guī)范,符合驗收要求。項目成功開發(fā)出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的ICP全譜光譜儀、ICP質(zhì)譜儀兩種痕量分析儀器整機,實現(xiàn)推廣應用;攻克了ICP射頻源、四極桿射頻源、激光燒蝕固體直接進樣系統(tǒng)、多位自動進樣裝置、基于中階梯光柵和大面積CCD采集的高分辨二維分光系統(tǒng)、碰撞反應池、中階梯光柵刻劃、四極桿等關(guān)鍵部件、關(guān)鍵技術(shù)及核心元器件技術(shù)和工藝難題;針對國內(nèi)用戶的普遍特點和特殊需求,在儀器中集成了多功能開放性軟件、譜線和分析方法數(shù)據(jù)庫,提升國產(chǎn)分析儀器的國際競爭力。項目執(zhí)行期內(nèi)共完成了分析方法、應用、對比報告51篇,形成行業(yè)標準8項,38項(其中授權(quán)19項),軟件著作權(quán)4項,發(fā)表65篇。項目預期目標全部實現(xiàn)。
在工程化和產(chǎn)業(yè)化方面,項目牽頭單位已經(jīng)在永豐建成ICP光譜儀、ICP質(zhì)譜儀產(chǎn)業(yè)基地,將可靠性管理的理論、工具、方法和裝備應用于分析儀器開發(fā)的全流程,建立了完整的質(zhì)量管理體系,建設(shè)了ICP射頻源、激光燒蝕進樣系統(tǒng)、ICP全譜光譜儀、ICP質(zhì)譜儀4條生產(chǎn)線。ICP全譜光譜儀已經(jīng)獲得生產(chǎn)許可證書,產(chǎn)品已經(jīng)銷售至寧夏、浙江、山東、新疆、湖南、河南及國外(伊朗)等地,產(chǎn)品經(jīng)過安裝和調(diào)試,均順利通過驗收。