PVD鍍膜的具體原理是什么? 

　　離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

真空電鍍工藝則有所不同，真空電鍍是真空罩內(nèi)進行的但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現(xiàn)的，真空電鍍蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。

簡短說說PVD真空鍍膜前后左右有哪些不一樣的地區(qū)：

   1.產(chǎn)品歷經(jīng)鍍膜后，會在產(chǎn)品表面產(chǎn)生一種防護膜，能夠 合理抵御浸蝕，更為耐磨損，提高產(chǎn)品品質(zhì)。

   2.鍍膜可以更改產(chǎn)品外型，可依據(jù)不一樣產(chǎn)品顧客人群電鍍的工藝不一樣顏色外型，考慮消費市場，如五金真空鍍膜18k金。

   3.鍍膜的膜層就越好，保色時間越長，像英利悅的真空泵厚金電鍍的工藝，保色時間可做到1-三年。

   4.鍍膜后由于品質(zhì)及其使用期的增加，能為產(chǎn)品產(chǎn)生額外使用價值提高，有益于提升產(chǎn)品經(jīng)濟效益。

 PVD真空鍍膜有三種方式，即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍。在其中，揮發(fā)物質(zhì)的分子被電子器件撞擊弱電解質(zhì)后，以正離子沉積在固態(tài)表面，稱之為離子鍍。這類技術(shù)是D.麥托阿斯特里于1963年明確提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與負極磁控濺射技術(shù)的融合。真空泵離子鍍膜又可分成電孤離子鍍、磁控濺射離子鍍、中空負極離子鍍膜三種方法。

PVD真空鍍膜技術(shù)知識問答：什么是PVD？真空電鍍加工真空鍍膜技術(shù)。PVD是英文的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。請問PVD鍍膜的具體原理是什么?離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。