真空電鍍玻璃真空電鍍加工

真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子，陰極吸引下，隨同離子一同沖向工件，真空電鍍當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子逾越濺失離子的數(shù)量時(shí)，真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

 真空電鍍工藝則有所不同，真空電鍍是真空罩內(nèi)進(jìn)行的但這時(shí)鍍膜過(guò)程是以電荷傳遞的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)的，真空電鍍蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。

真空電鍍加工玻璃真空電鍍加工

      真空電鍍加工系統(tǒng)由機(jī)械泵、分散泵、油增壓泵、增擴(kuò)泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動(dòng)、手動(dòng)、電動(dòng)閥門(mén)、管道等組成。依據(jù)工藝要求挑選鍍制方法，如電阻蒸騰，磁控源以靶材材質(zhì)及尺度多弧源，真空計(jì)量可挑選數(shù)字式智能真空計(jì)及其的計(jì)量規(guī)管，及其它計(jì)量?jī)x器，如自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀等。膜厚測(cè)量可選用方塊電阻測(cè)量?jī)x，透過(guò)率計(jì)等。

真空電鍍作為真空鍍膜工藝之一被廣泛應(yīng)用于諸多領(lǐng)域，而我們化妝品外包裝行業(yè)也是此工藝的應(yīng)用和推廣者之一。如下圖所示，所采用的方式多為高溫蒸發(fā)真空沉積。

真空電鍍是在真空條件下用蒸發(fā)器加熱待蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化并向基板運(yùn)輸在基板上冷凝形成固態(tài)薄膜的過(guò)程。

真空電鍍與其他氣相沉積技術(shù)相比有許多優(yōu)點(diǎn)：設(shè)備比較簡(jiǎn)單、容易操作；制備的薄膜純度高、成膜速度快；薄膜生長(zhǎng)機(jī)理簡(jiǎn)單，易控制和模擬。