中型超聲波提取設(shè)備特點(diǎn)

2、按照超聲波提取設(shè)備的結(jié)構(gòu)進(jìn)行分類，也可分為內(nèi)置式超聲提取設(shè)備和外置式超聲提取設(shè)備兩類。

內(nèi)置式超聲提取設(shè)備：主要是指將超聲波換能器陣列組合成密封于一個(gè)多邊形立柱體內(nèi)，并將其安裝于中藥提取罐內(nèi)中心位置，其超聲能量從多邊形立柱內(nèi)向外（罐內(nèi)的媒質(zhì)）發(fā)射，從而達(dá)到提取的效果。

外置式超聲提取設(shè)備：主要是指將超聲波換能器以陣列組合的方式安裝于提取罐體的外壁，其超聲能量由罐外壁向罐內(nèi)（媒質(zhì)）發(fā)射。

中型超聲波提取設(shè)備發(fā)展

超聲波清洗技術(shù)經(jīng)過幾十年來的理論探討和應(yīng)用研究，無論設(shè)備還是工藝上均取得了較大的發(fā)展，有關(guān)單位相繼研發(fā)了一大批信的產(chǎn)品，也制定出了一次阿先進(jìn)典型的清洗工藝。

   1.高頻超聲清洗

   對于象硅片表面小至零點(diǎn)幾微米的超微污物粒子，常規(guī)的超聲波清洗器無能為力，即使增加功率密度也無濟(jì)于事。近年來發(fā)展了一種兆赫茲級的高頻超聲清洗技術(shù)，由于頻率高，空化效應(yīng)已不起作用，因此清洗的關(guān)鍵不是氣泡，是高頻壓力波的擦洗作用，其對污物的去除率一百。高頻清洗進(jìn)來發(fā)展較快，主要用于超大規(guī)模集成電路芯片上的污物清洗，以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特種污物的清洗。超聲波在介質(zhì)中傳播時(shí)的物理特性引發(fā)的機(jī)械振動、微射流、微聲流等多級效應(yīng)皆促使有效成分在溶液中擴(kuò)散。

中型超聲波提取設(shè)備傳播

超聲波提取器可以在氣體、液體及固體中傳播，其傳播速度不同。超聲波在介質(zhì)中傳播的波形取決于介質(zhì)可以承受何種作用力以及如何對介質(zhì)激發(fā)超聲波。

　　通常有如下三種:

　　(1)縱波波型

　　當(dāng)介質(zhì)中質(zhì)點(diǎn)振動方向與超聲波的傳播方向一致時(shí)，此超聲波為縱波波型。任何固體介質(zhì)當(dāng)其體積發(fā)生交替變化時(shí)均能產(chǎn)生縱波。在工業(yè)中應(yīng)用主要采用縱向振蕩。

　　(2)橫波波型

　　當(dāng)介質(zhì)中質(zhì)點(diǎn)的振動方向與超聲波的傳播方向相垂直時(shí)，此種超聲波為橫波波型。由于固體介質(zhì)除了能承受體積變形外，還能承受切變變形，因此，當(dāng)其有剪切力交替作用于固體介質(zhì)時(shí)均能產(chǎn)生橫波。橫波只能在固體介質(zhì)中傳播。