在芯片制造領(lǐng)域，光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個形象的比喻，光刻機是芯片制造的魂，蝕刻機是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個東西都必須。

而在光刻機方面，與世界的7nm制程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭，但ASML終究是背后霸主，贏家，因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產(chǎn)光刻機還在路上，目前我國已經(jīng)能夠使用365納米波長的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片，這在全世界尚無先例，它也被稱為世界上首臺分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產(chǎn)光刻機可以使用低成本光源，實現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

硬烘、刻蝕等工序，Photolithography（光刻）意思是用光來制造一個圖形。（工藝）；在硅片外表勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光，刻膠上的將器件或電路結(jié)構(gòu)暫時“”到硅片上的過，程。光刻的目的，使表有疏水性，增強基底外表與光刻膠的黏附性，丈量臺、臺承載硅片的作業(yè)臺。也便是本次所說。的雙作業(yè)臺，光束糾正器糾正光束入射方向，讓激光束盡量平行，能量操控器操控終照硅片上的能量，缺少，或過足都會嚴(yán)重影響成像質(zhì)量。光束形狀設(shè)置設(shè)置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀，同的光束狀況有不同的光學(xué)特性。遮光器在不需求的時分。

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運用各種金屬在蝕刻液中產(chǎn)生陽極分別的原理，在不銹鋼、鈦金板、金、銀、銅、模具鋼等金屬上蝕刻圖像和文字。

蝕刻技能介紹

蝕刻技能分為濕式蝕刻與干式蝕刻，濕式蝕刻為常用，運用特定的溶液與薄膜間所進行的化學(xué)反應(yīng)來去除薄膜未被光阻掩蓋的部分，而抵達蝕刻的目的，這種蝕刻方法也便是所謂的濕式蝕刻。

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蝕刻加工主要是針對金屬進行定制加工，也被稱為金屬腐蝕加工，適用領(lǐng)域范圍有電子、精 密五金、通訊、汽車工程、等，那么蝕刻加工具體都有哪些用途呢？

(1)去毛刺。由于不銹鋼板在沖制或機械加工后，在端面或棱角處存在毛刺，不僅影響產(chǎn)品的外觀，也影響機器的使用效果，如果采用機械拋光或手工去毛刺，不僅工效低，也不能滿足設(shè)計的圓角倒角要求，采用特殊的化學(xué)拋光或電化學(xué)拋光溶液，對毛刺進行腐蝕加工，而又不損害表面光潔度，甚至可以提高表面光潔度。這是表面處理與機械加工的結(jié)合。

(2)除去多余尺寸。如某不銹簧鋼絲，其線徑要求φ0.8~0.84，而實際線徑是和0.9，如何使制成品均勻變?yōu)棣?.8~0.84，如何有效地去除機加工過程中的毛刺和熱處理過程中產(chǎn)生的氧化膜?如要采用機械拋磨和鉗修的方法除去毛刺、氧化皮和鋼絲直徑圓周上均勻地除去0.06~0.1mm.不僅加工工藝性差，效率低，加工質(zhì)量也難以保證。利用化學(xué)拋光的特殊溶液，可以同時達到除去毛刺，氧化皮，均勻除去多余的線徑尺寸的目的。又如對某些片狀不銹鋼零件，尺寸大些，也可以利用電化學(xué)拋光的特殊溶液適當(dāng)減薄厚度尺寸，達到產(chǎn)品尺寸要求。

(3)銑切加工。將不銹鋼材料需要加工的部位暴露于化學(xué)銑切液中進行銑切加工，從而獲得一定形狀或尺寸的零件，達到具有立體感、裝飾性的目的。利用絲網(wǎng)漏印，可對不銹鋼表面化學(xué)銑切出文字、花紋、圖樣，達到一定的深度，再填充上一定的不同的色彩，如獎牌、標(biāo)牌、銘牌等。