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TCS （氫硅）

TCS 是 SiHCl3 （氫硅）的縮寫。氫硅是光伏產(chǎn)業(yè)鏈前段的一種關(guān)鍵化學(xué)原料，使用化學(xué)沉積方法制備高純的多晶硅材料，得到晶體面無序排列的多晶硅。

氫硅是多晶硅及其下游光伏產(chǎn)業(yè)的重要原材料，同時(shí)生產(chǎn)過程中副產(chǎn)的化硅在白炭黑、有機(jī)硅、光纖材料制造領(lǐng)域也具有很好的需求廣度與深度。作為硅深加工產(chǎn)業(yè)鏈的重要一環(huán)， 其發(fā)展路徑也同樣遵循著產(chǎn)業(yè)周期起伏、生產(chǎn)技術(shù)進(jìn)步、產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)變遷等主線。

我們?yōu)閲?guó)內(nèi)外客戶提供鋼瓶普氣、電子氣等各類氣體，及其相關(guān)氣柜、面板、閥門及配件等設(shè)備、部件及工程服務(wù)；產(chǎn)品涉及各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域，如半導(dǎo)體芯片，太陽能電池，發(fā)光二極管，液晶顯示器，光學(xué)纖維，玻璃，激光等。

電子級(jí)三氯氫硅electronic grade trici}lorcx}ilane SiHC13無 色可燃，腐蝕性液體，有令人窒息的臭味。在濕空氣中迅速水解 生成氯化氫:沸點(diǎn)31.9':.熔點(diǎn)一126.5 C:。液體密度134UkgI 耐:在空氣「}，的可燃限b.9%一7U }'u。閃點(diǎn)一28 . U}.。用途在集成電路、半導(dǎo)體和電真空器件制造中用作保護(hù)氣和運(yùn)載氣，化學(xué)氣相淀積時(shí)的載氣，液體擴(kuò)散源的攜帶氣，在高溫?cái)U(kuò)散爐中用作器件的保護(hù)氣。TI}V按 HCl)5x 1U一“。

三氯氫硅 制備方法及用途制備方法

1.沸騰氯化法 硅粉經(jīng)干燥后加入氯化沸騰爐，與通人爐中的干燥氯化氫氣體在340℃進(jìn)行反應(yīng)。生成的粗三氯氫硅經(jīng)濕法除塵器、列管冷凝器去蒸餾塔分離硅，由蒸餾塔出來的三氯氫硅氣體經(jīng)冷凝，制得三氯氫硅成品。