公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

標(biāo)定板圖紙內(nèi)容如下：

1.   需要附上材料

2.   精度

3.   外形尺寸公差，厚度

4.   制作效果圖紙：正負(fù)板之分等。（如果考慮價格因素，需要強(qiáng)調(diào)多少倍率下面允許看到瑕疵）

5.   需要提供詳細(xì)的CAD圖紙（圖紙i好不要畫比例圖紙）。以上為制作標(biāo)定板完整信息

用選定的圖像、圖形或物體，對處理的圖像（全部或局部）進(jìn)行遮擋，來控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。用于覆蓋的特定圖像或物體稱為掩?；蚰０?。光學(xué)圖像處理中,掩模可以是膠片、濾光片等。數(shù)字圖像處理中,掩模為二維矩陣數(shù)組,有時也用多值圖像。

光刻版在使用過程中不可避免的會粘上灰塵、光刻膠等污染物，這些污染物的存在直接影響到光刻的效果。為了保證光刻版潔凈，必須定期對光刻版進(jìn)行清洗，而清洗的效果與清洗工藝以及各清洗工藝在設(shè)備上的合理配置有著密切的聯(lián)系。

光致抗蝕劑也被稱為光致抗蝕劑。掩模板上的圖案被轉(zhuǎn)移到晶片表面頂層的光致抗蝕劑上，并且在后續(xù)工藝中保護(hù)下面的材料(蝕刻或離子注入)。光致抗蝕劑由光敏樹脂、光引發(fā)劑、添加劑、溶劑等組成。其中，光敏樹脂是光刻膠的關(guān)鍵成分。