平面拋光是應(yīng)用柔性拋光對象和磨料顆粒對工件外面停止的潤飾加工和去毛刺。拋光不克不及進步工件的尺寸精度或多少外形精度，而因此獲得滑膩外面或鏡面光芒為目標。平面拋光是寄托異常細小的拋光粉的磨削、滾壓感化，撤除試樣磨面上的極薄一層金屬。

   平面拋光時，拋光機上的拋光輪在作高速扭轉(zhuǎn)，操作者將被拋光的制件外面以恰當?shù)膲毫Π磯涸?拋光輪上，這時候因磨擦感化而發(fā)生低溫，使被拋光的外面容易發(fā)生變形而構(gòu)成一層“加工變質(zhì)層”。在扭轉(zhuǎn)著的磨擦力的感化下，一方面外面的某些凸出部門被削去，同時金屬制件外面也會發(fā)生塑性變形，突出部位被壓人，或挪動一段間隔后填人凸起部位。當拋光過程停止時，應(yīng)仔細去除所有研磨劑和潤滑劑，保證工件表面整潔，隨后應(yīng)在工件表面噴涂一層模具防銹層。這類削凸填凹的整平進程，以高速率大規(guī)模地重復(fù)停止，加之拋光膏的光明化感化，成果就使本來較粗拙的制件外面，變得膩滑而光明。

   平面拋光機鏡面加工技術(shù)是一門新興的綜合性加工技術(shù)，它集成了現(xiàn)代機械、光學(xué)、電子計算機、測量及材料等先進技術(shù)成就，已成為國家科學(xué)技術(shù)發(fā)展水平的重要標志。大多數(shù)方管以鋼管主，經(jīng)過拆包，平整，卷曲，焊接形成方管，再由方管軋制方形管然后剪切成需要的長度。隨著各種新型功能陶瓷材料的不斷研制成功，以及這些材料在各種電子元器件、光學(xué)、信息系統(tǒng)等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用，要求元件和零件的加工精度越來越高，有的甚至要求達到納米級或更高的加工精度以及無損傷的表面加工質(zhì)量。

   對于拋光來說，主要是在維持研磨所取得良好的平面度前提下，去除工件表面微小的凸起和表面損傷層，以獲得鏡面光度。所以要求均與、無方向性地拋光整個工件表面。反映在速度上，就是工件表面上每一點的相對速度大小應(yīng)在任何時候都保持恒定。

與石材磨拋相關(guān)的環(huán)節(jié)和工藝可分為工廠磨拋和維護磨拋，或者大磨拋和小磨拋。在工廠這個環(huán)節(jié)里既有大磨拋也有小磨拋。這個環(huán)節(jié)對石材進行的初始研磨和拋光都是在自動化和專業(yè)化較高的大型設(shè)備條件下進行的，所以我們稱之大拋光。一般來說這種條件下石材得到的光澤。當然，受到一些因素的制約，在工廠里也會使用一些小型的設(shè)備和工具對石材進行打磨拋光，我們稱之小拋光。首先，不銹鋼電解拋光的配套設(shè)備要設(shè)計合理，并且操作人員需要有經(jīng)過專業(yè)的技術(shù)培訓(xùn)，方可上崗操作。例如，板材破損的修補，異形的處理，線條的處理等。維護磨拋，是指在石材后期安裝和應(yīng)用過程中對石材光澤進行再處理。例如，安裝現(xiàn)場石材破損的修補，平整度的處理，劃傷和磨損的處理，石材的翻新處理和光澤保持。由于受到環(huán)境等因素制約，這個環(huán)節(jié)對石材光澤的處理主要是依賴于一些小型設(shè)備和工具甚至于完全靠手工完成，這些都屬于小磨拋。由于小磨拋所使用的設(shè)備和材料限制，磨拋后得到的光澤程度也是較低的，所以我們會經(jīng)常見到人們對石材再拋光后光澤下降和不均勻的抱怨。

 平面拋光機，顧名思義就是對類似于臺面，鋼板或者是平面玻璃等一些外表呈現(xiàn)直面的物體的表面進行拋光打磨，使其外表光滑潔凈無污跡，所以不管是為了家用，還是用于工業(yè)生產(chǎn)，這種設(shè)備都是非常實用又便捷的電子產(chǎn)品，因而使用的人群也是相當普遍的。

 在使用平面拋光機時，大多數(shù)人可能直接上手就開始對所需加工的物件進行拋光，其實從科學(xué)的角度來說，這是不太規(guī)范的。因為在拋光物件之前首先是需要對物件表面進行電鍍前的處理的，這樣就可以提高電鍍拋光的效果。

 可能會有人有這樣的疑問，為什么在拋光前還需要這樣麻煩地對物件進行鍍前處理呢？原因就在于在電鍍前，或許物件本身由于長時間存放于一處而造成其表面產(chǎn)生了一些類似于氧化層之類的物質(zhì)，在增厚了面積的同時也嚴重降低了拋光的工作效率，而且又消耗了不必要的能源，降低了使用質(zhì)量。2、操作先進、簡便，采用的程序控制系統(tǒng)具有觸摸操作面板，可以直接在觸摸面板上設(shè)置研磨盤的轉(zhuǎn)速以及需要工作的時間。