等離子拋光作為一種新的拋光工藝,是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時間和成本。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內，因此等離子納米拋光處理可以化學活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學物質。

主要技術要點是將之前的等離子拋光中的氣態(tài)粒子,原子、分子、原子團、氣離子和和電離子得到數(shù)萬倍的增加,而這些離子在對要拋光的工件進行物理摩擦時它們的平均活躍度得到了的增加,它的活躍程度遠遠高于材料表面的活躍度達數(shù)億倍,使鋁材表面的光潔度脫影而出。

等離子拋光原理

等離子也稱為物質的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。

等離子拋光在金屬表面處理行業(yè)的應用。

 一般需要做真空鍍膜或真空鍍膜的產(chǎn)品，在開始前都會先做清洗工藝，部份客戶取用等離子拋光工藝，然后再做真空鍍膜工藝（如圖6）。

拋光拉絲后再做真空鍍膜的產(chǎn)品也需要先做等離子拋光工藝，然后再做真空鍍膜（如圖8）。這是因為產(chǎn)品在拉絲過程中很容易使砂礫拉傷表面或者尼龍絲被高溫燒焦吸附在工件拉絲位，簡單的清洗也是根本沒辦法去除干凈。如果清洗不干凈也會給真空鍍膜造成麻點，砂眼和顏色不均。