曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。


硅膠套：比較軟，拆卸極其方便，這種材質(zhì)成本較低，容易變形主要是顏色容易發(fā)黃，用不多久就會有很明顯，但手感還不錯，摔落后有較好的彈性緩沖，能對手機(jī)起到保護(hù)作用。缺點(diǎn)是散熱極差，影響機(jī)器速度，你可以想想一下自己貼身穿個這種材質(zhì)的衣服又不透氣，整個炎熱的夏天什么感受。所以一般這種材質(zhì)適合做批發(fā)，價(jià)格比較便宜，適合一些手機(jī)價(jià)格不是太貴的品牌和對手機(jī)殼要求不高的用戶。

曝光顯影是蝕刻工藝中非常重要的部分，它是圖案準(zhǔn)確度的決定性因素，因此曝光顯影管控非常重要。蝕刻加工的優(yōu)點(diǎn)主要體現(xiàn)在：產(chǎn)品沒有毛刺，大批量，密集的小孔同樣可以穩(wěn)定的批量生產(chǎn).精密度可以更高，較高管控的精度可以達(dá)到 /-0.005mm,特別適合精密薄材的不銹鋼，銅等材料的蝕刻加工，其優(yōu)點(diǎn)主要體現(xiàn)在不變形，公差要求嚴(yán).加工出的產(chǎn)品沒有毛刺、無臟污、表面光滑，蝕刻加工其他機(jī)械工藝無法加工的高精密產(chǎn)品！

蝕刻速度決定了蝕刻加工周期的長短，蝕刻速度越快，蝕刻加工周期越短，生產(chǎn)效率越高，反之生產(chǎn)效率較低。但是，蝕刻速度也并非越快越好：

對于整體蝕刻或成型的化學(xué)蝕刻加工及鏤空圖文的蝕刻往往都是兩個面同時進(jìn)行。這種雙面蝕刻加工的速度比只在一個面進(jìn)行的蝕刻加工的速度快1倍，在金屬材料一定的情況下，影響蝕刻加工速度的因素很多，其中主要的是蝕刻劑的種類、濃度及蝕刻溫度。如果蝕刻劑的濃度及蝕刻條件一定，材料的特性及熱處理狀態(tài)對蝕刻加工的速度同樣有很大的影響。