堿類物質(zhì)。堿類助洗劑常用的為氫氧化吶、純堿、硅酸鈉和三聚磷酸鈉。氫氧化吶和純堿作為堿劑，價(jià)格為便宜，廢水較難處理，有時(shí)因?yàn)閴A性偏強(qiáng)導(dǎo)致清洗物體受到損傷，另一方面氫氧化吶和純堿沒(méi)有乳化作用對(duì)于礦物油清洗沒(méi)有任何效果；硅酸鈉與三聚磷酸鈉既能提供堿性，又能提供一定的乳化力，廣泛的用于各種除油清洗劑中特別是對(duì)堿敏感的除油工藝。使用硅酸鈉大的缺陷是除油后若不用熱水先洗一道，直接冷水洗很難將殘留的硅酸鈉完全洗凈，殘留的硅酸鈉會(huì)與下一道工序的酸反應(yīng)生成附著牢固的硅膠，從而影響鍍層的結(jié)合力；三聚磷酸鈉則主要存在磷污染破壞環(huán)境的擔(dān)憂。

真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊亞氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。但旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場(chǎng)靜止靶源。

硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。

在防護(hù)涂層中的應(yīng)用：飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。

在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應(yīng)用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

在建筑玻璃方面的應(yīng)用：陽(yáng)光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。

在太陽(yáng)能利用領(lǐng)域的應(yīng)用：太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等。

在集成電路制造中的應(yīng)用：薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。

1、東莞真空電鍍廠的真空鍍膜膜對(duì)人的危害很小的。

2、電磁輻射很小。

3、真空泵排氣要直接到室外。

4、鍍膜結(jié)束后，打開(kāi)真空室時(shí)，可能會(huì)有大量灰塵，注意別吸到呼吸道中。

5、不要長(zhǎng)時(shí)間觀察等離子體束，可能對(duì)我們的眼睛有傷害。

6、如果需要加熱，注意別燙到。

7、注意工藝氣體不能泄露。

應(yīng)該是真空濺鍍，不是電鍍。這種鍍膜方式危害很小，對(duì)人體危害較大的就是打開(kāi)真空室時(shí)產(chǎn)生的灰塵。