鍍膜設(shè)備的鍍膜方式及特點(diǎn)

鍍膜設(shè)備就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤的設(shè)備。真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。

鍍膜設(shè)備的鍍膜方式：離子鍍，蒸發(fā)鍍，濺射鍍，鍍膜設(shè)備的特點(diǎn)：成膜速度快0.1-50um/min，設(shè)備比較簡單，操作容易;制得薄膜純度高;薄膜生長機(jī)理較簡單。

影響鍍膜機(jī)磁控靶點(diǎn)火電壓的幾個(gè)因素

氣體壓力對(duì)點(diǎn)火電壓的影響：在磁控靶濺射鍍膜工藝過程中，由于磁控靶的陰-陽極間距一經(jīng)確定就是一個(gè)大體不變的值，工作氣體的壓力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范圍內(nèi)變化可能會(huì)對(duì)點(diǎn)火電壓產(chǎn)生較大的影響，總的變化趨勢為：隨著工作氣體的壓力的逐步增大，磁控靶點(diǎn)火電壓相應(yīng)降低。不同的磁控靶、不同材質(zhì)的靶材，靶啟輝點(diǎn)火的工作氣體壓強(qiáng)不盡相同。

電源對(duì)點(diǎn)火電壓的影響：在同等條件下，選用射頻靶電源比選中頻或直流靶電源，磁控靶陰極點(diǎn)火電壓和工作(濺射)電壓都會(huì)要降低;選用射頻、中頻正弦半波或脈沖靶電源，比選低頻率同類波形靶電源，陰極點(diǎn)火電壓和工作(濺射)電壓均會(huì)要降低;

臥式大型不銹鋼鍍膜機(jī)

該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于建筑五金裝飾，家具、燈具、賓館用具、汽車、航空等產(chǎn)品，設(shè)備性能各項(xiàng)指標(biāo)均達(dá)到水平，設(shè)備出口到歐美發(fā)達(dá)國際市場。臥式大型不銹鋼鍍膜機(jī)專為不銹鋼飾板離子鍍裝飾膜層設(shè)計(jì)，離子鍍膜層有真

實(shí)的金屬質(zhì)感，這是化學(xué)鍍不銹鋼彩板不能比擬的。該系列設(shè)備鍍室直徑1800~2300mm高3600~4400mm，可一次鍍1220x4000mm板3張；配三套大抽力真空機(jī)組，抽速快，工作周期短；采用圓形電弧靶34~56個(gè)，靶位合理布局，配脈沖偏壓系統(tǒng)，膜結(jié)合力好，彩色均勻，觸摸屏 PLC，可以實(shí)現(xiàn)電腦全自動(dòng)控制，自動(dòng)/手動(dòng)隨時(shí)切換，運(yùn)行性能可靠穩(wěn)定。可鍍金色、銀色、槍色、黑色、玫瑰金色、咖啡色、七彩、藍(lán)色等裝飾膜。

真空鍍膜機(jī)所以在后掩蔽和清洗輥速度不太快

蒸發(fā)鍍膜成分均勻性不易確保，與特定的因素能夠操控，但由于有限的原理，對(duì)非單組分涂料，蒸發(fā)鍍膜成分均勻性欠好。濺射能夠簡略地理解為電子或高能激光炮擊方針的運(yùn)用，使得外表成分的自由基或離子方式濺射，并堆積在襯底外表的成膜過程中，經(jīng)歷，終構(gòu)成薄膜。真空鍍膜機(jī)的設(shè)備濺射被分為很多類型，在濺射速率不同點(diǎn)和蒸發(fā)將變成一個(gè)首要的參數(shù)。

激光濺射PLD濺射涂層的成分均勻性，易于保護(hù)，和原子標(biāo)準(zhǔn)的厚度均勻性較差（由于脈沖濺射），晶體取向（外）成長的操控也更通常的。

機(jī)床的正常運(yùn)行的情況下，真空鍍膜機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)器，你有必要首要翻開水管，應(yīng)一直注意在作業(yè)水壓力

同時(shí)，離子炮擊和蒸發(fā)，應(yīng)特別注意高壓電線連接器，不能觸摸，以防。涂層中的電子槍，對(duì)鋁的外圍鈴。好用鉛玻璃調(diào)查窗玻璃，應(yīng)戴上眼鏡調(diào)查鉛玻璃，避免X射線對(duì)人體的。多層介質(zhì)膜的涂層的堆積，真空鍍膜機(jī)應(yīng)當(dāng)裝置通風(fēng)除塵設(shè)備，及時(shí)掃除有害粉塵。