所謂無塵并非沒有一點(diǎn)灰塵，而是控制在一個非常微量的單位上。當(dāng)然這個標(biāo)準(zhǔn)中符合灰塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對于我們常見的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微，但是對于光學(xué)構(gòu)造而言，哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會產(chǎn)生非常大的影響，所以在光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的生產(chǎn)上，無塵是必然的要求。 無塵室中不論外在之空氣條件如何變化，其室內(nèi)均能俱有維持原先所設(shè)定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能之特性。2μm過濾器為之，一般洗滌周期視清潔度等級而定，在高潔凈區(qū)為2～3天，其他區(qū)域則為5天～1星期，洗滌完畢干燥后應(yīng)立即密封。

    無塵室主要之作用在于控制產(chǎn)品（如硅芯片等）所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產(chǎn)品能在一個良好之環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造，此空間我們稱之為無塵室。

     每立方米將大于0.5微米粒徑的微塵數(shù)量控制在3500個以下，就達(dá)到了國際無塵標(biāo)準(zhǔn)的A。應(yīng)用在芯片級生產(chǎn)加工的無塵標(biāo)準(zhǔn)對于灰塵的要求高于A，這樣的高標(biāo)主要被應(yīng)用在一些等級較高芯片生產(chǎn)上。微塵數(shù)量被嚴(yán)格控制在每立方米1000個以內(nèi)，這也就是業(yè)內(nèi)俗稱的1K級別。(3)對潔凈度要求不甚嚴(yán)的潔凈室，末級過濾器滿布率≤40%時對大系統(tǒng)綜合經(jīng)濟(jì)性往往相差不多，但對IC工廠而言FFU系統(tǒng)的靈活性是重要的，因此當(dāng)前IC工廠對過濾器滿布率≤40%時，采用FFU系統(tǒng)已經(jīng)普遍。

   每立方米將大于0.5微米粒徑的微塵數(shù)量控制在3500個以下，就達(dá)到了國際無塵標(biāo)準(zhǔn)的A。應(yīng)用在芯片級生產(chǎn)加工的無塵標(biāo)準(zhǔn)對于灰塵的要求高于A，這樣的高標(biāo)主要被應(yīng)用在一些等級較高芯片生產(chǎn)上。微塵數(shù)量被嚴(yán)格控制在每立方米1000個以內(nèi)，這也就是業(yè)內(nèi)俗稱的1K級別。機(jī)器及材料帶進(jìn)無塵室前，應(yīng)盡可能在密封狀態(tài)下帶進(jìn)無塵室前室保養(yǎng)后用超純水擦拭，經(jīng)風(fēng)淋室吹淋后才進(jìn)入無塵室。

    無塵室的優(yōu)點(diǎn)：構(gòu)造簡單、系統(tǒng)建造成本，無塵室之?dāng)U充比較容易，在某些特殊用途場所，可并用無塵工作臺，提高無塵室等級。

    無塵室的缺點(diǎn)：亂流造成的微塵粒子于室內(nèi) 空間飄浮不易排出，易污染制無塵室程產(chǎn)品。另外若系統(tǒng)停止運(yùn)轉(zhuǎn)再重啟，欲達(dá)需求之潔凈度，往往須耗時相當(dāng)長一段時間。

   無塵室內(nèi)防止微粒子污染的基本原則：

    不發(fā)生

　　在控制大污染源--人在無塵室內(nèi)的微粒子發(fā)塵量的同時，也應(yīng)控制第二大污染源—制造機(jī)臺的發(fā)塵量。因物品在移動時，所產(chǎn)生的摩擦及接觸剝離會造成發(fā)塵，而物品在移動時也會有微粒子的發(fā)生。故為了控制發(fā)塵量達(dá)到小限度應(yīng)采取以下對策：

　　減少接觸剝離發(fā)塵的動作形態(tài)；

　　采用磨耗發(fā)塵小的材質(zhì)；

　　采用發(fā)塵小的潤滑油；

　　機(jī)臺應(yīng)用空壓浮上的非接觸化工作原理。