真空鍍膜機(jī)濺射工藝

真空鍍膜機(jī)濺射工藝主要用于真空鍍膜機(jī)濺射刻蝕和薄膜沉積兩個(gè)方面。濺射刻蝕時(shí)，被刻蝕的材料置于靶極位置，受Ar離子的轟擊進(jìn)行刻蝕?？涛g速率與靶極材料的濺射產(chǎn)額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關(guān)。真空鍍膜機(jī)濺射刻蝕時(shí)，應(yīng)盡可能從真空鍍膜機(jī)濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應(yīng)氣體，使之與濺出的靶極原子反應(yīng)生成揮發(fā)性氣體，通過真空系統(tǒng)從濺射室中排出。沉積薄膜時(shí)，濺射源置于靶極，受Ar離子轟擊后發(fā)生濺射。如果靶材是單質(zhì)的，則在襯底上生成靶極物質(zhì)的單質(zhì)薄膜；若在濺射室內(nèi)有意識(shí)地引入反應(yīng)氣體，使之與濺出的靶材原子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而淀積于襯底，便可形成靶極材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進(jìn)行濺射而得。在濺射中，濺出的原子是與具有數(shù)千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來的，其能量較高，往往比蒸發(fā)原子高出1～2個(gè)數(shù)量級(jí)，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發(fā)為佳。

若在濺射時(shí)襯底加適當(dāng)?shù)钠珘海梢约骖櫼r底的清潔處理，這對(duì)生成薄膜的臺(tái)階覆蓋也有好處。另外，用真空鍍膜機(jī)濺射法可以制備不能用蒸發(fā)工藝制備的高熔點(diǎn)、低蒸氣壓物質(zhì)膜，便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。離子束濺射裝置中，由離子槍提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產(chǎn)生濺射。離子槍可以兼作襯底的清潔處理和對(duì)靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產(chǎn)生電荷堆積，可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子槍之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應(yīng)用于表面分析儀器中，對(duì)樣品進(jìn)行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限，用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難。等離子體真空鍍膜機(jī)濺射也稱輝光放電濺射。產(chǎn)生濺射所需的正離子來源于輝光放電中的等離子區(qū)。靶極表面必須是一個(gè)高的負(fù)電位，正離子被此電場(chǎng)加速后獲得動(dòng)能轟擊靶極產(chǎn)生濺射，同時(shí)不可避免地發(fā)生電子對(duì)襯底的轟擊。

真空鍍膜機(jī)真空的清洗方法,你知道嗎?

真空鍍膜機(jī)真空清洗一般定義為在真空工藝進(jìn)行前，先從工件或系統(tǒng)材料表面清除所不期望的物質(zhì)的過程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的，因?yàn)橛晌廴疚锼斐傻臍怏w、蒸氣源會(huì)使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，還會(huì)影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。

一．真空加熱清洗

將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來達(dá)到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下，為了得到原子級(jí)清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時(shí)，這種處理方法也會(huì)產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果，可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^大的團(tuán)粒，并同時(shí)分解成碳渣

二．紫外線輻照清洗

利用紫外輻照來分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如，在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加．

熱成型模真空鍍膜機(jī)有什么優(yōu)勢(shì)：

熱擠壓模：熱擠壓過程中所使用的鐵合金與非鐵合金工具必須經(jīng)受因腐蝕與超高溫而產(chǎn)生的高成形壓力，嚴(yán)重的磨粒磨損以及粘著磨損。HC物理氣相沉積涂層與HC化學(xué)氣相沉積涂層展現(xiàn)了其高韌性，耐磨性，抗腐蝕性以及熱穩(wěn)定性，而這些性能恰恰能夠明顯地提高工具的使用效率。HC化學(xué)氣相沉積涂層通常適用于擁有復(fù)雜幾何圖形和較大長寬比的工具。HC08,HC10或HC29涂層適用于公差要求不高的工具，而結(jié)合了滲氮處理的HC35,HC22或HC30涂層適用于公差要求很高的熱擠壓工具。

熱鍛模：熱鍛造過程中所使用的工具必須經(jīng)受高成形壓力，嚴(yán)重的磨粒磨損以及粘著磨損，并且需要經(jīng)歷要求嚴(yán)苛的熱環(huán)境條件。另外，它們必須經(jīng)受高水平的沖擊，因此地提升工具性能變得更具挑戰(zhàn)性。HC物理氣相沉積涂層具有高韌性，耐磨性，熱穩(wěn)定性以及抗擦傷性，而這些性能恰恰能夠提高工具的使用效率以及鐵合金與非鐵合金產(chǎn)品的質(zhì)量。

結(jié)合了滲氮處理的HC22,HC25與HC30涂層適用于熱鍛造工具。

真空鍍膜機(jī)鍍膜原理：

高電壓電子槍將以上幾種藥品汽化，均勻分布在鏡片表面。

1.全表面單層鍍膜（FC）:所有接觸空氣的玻璃表面都鍍了單層減反增透膜。如果在所有的空氣介面上都鍍上單層減反增透膜，會(huì)在一個(gè)波段上取得更高的透光率。為方便工藝，在全表面單層減反膜的設(shè)計(jì)中，某一片的二個(gè)面中心波長通常一致。

2.多層減反增透膜和寬帶膜（MC）:單層膜的剩余反射率仍顯高，偏色現(xiàn)象比較嚴(yán)重。要進(jìn)一步提高透光率，可用雙層Ｖ形增透膜，用層鍍膜控制鏡片的反射率，第二層鍍膜改善光透射率。對(duì)于單層氟化鎂膜，光學(xué)玻璃的折射率ng是太低，可先鍍一層厚度為λc2/4（λc2為光在鍍膜中的波長）的折射率大于鏡片折射率的一氧化硅膜（折射率為nc2），這時(shí)薄膜和基片的組合系統(tǒng)可以用一折射率為v=nc2^2/ng的假想基片來提高鏡片的折射率，然后鍍上一層λc1/4氟化鎂膜層來減少反射率。但對(duì)于偏離λ的波長，不能等價(jià)也不能滿足干涉相消的條件，故分光曲線呈Ｖ形，色彩仍不平衡。

要進(jìn)一步消除彩斑幻象，平衡色彩可用雙層或多層Ｗ形寬帶減反增透膜，多層減反增透膜系還原真實(shí)色彩，并不是要求鏡片在可見光(370nm―680nm)光譜范圍內(nèi)透過率一致。而是要求在藍(lán)、綠、紅光（370nm―480nm、500-550nm、580nm―680nm）三個(gè)通道通過的光線恰好可以合成標(biāo)準(zhǔn)的白光。這種膜系的反射率曲線在520nm-540nm區(qū)間形成一個(gè)0.8%左右的反射峰，在440nm和640nm處有二個(gè)反射谷，形狀像W曲線，所以叫W形減反增透膜。這種膜系的反光為翠綠色所以也稱減反綠膜。