光學(xué)石英玻璃的簡單介紹

石英玻璃一般采用高純度的硅砂為原料，通過熔融-淬滅方法(加熱材料到熔化溫度，然后快速冷卻到玻璃的固態(tài)相)制得。

石英晶體的結(jié)構(gòu)是：一個(gè)硅原子周圍有4個(gè)氧原子，一個(gè)氧原子周圍有2個(gè)硅原子，構(gòu)成空間的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，硅氧鍵的鍵長為0.162 nm，硅原子直徑為0.117 nm，氧原子的直徑為0.148 nm，原子之間存在微小的間隙。

近些年來，我國光通訊產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、太陽能光伏產(chǎn)業(yè)以及航空航天的高速發(fā)展，給我國的石英玻璃行業(yè)發(fā)展提供了更廣闊的發(fā)展市場(chǎng)，也驅(qū)動(dòng)著我國石英玻璃產(chǎn)品水平攀登更高臺(tái)階。

但是，目前我國生產(chǎn)的可用于領(lǐng)域的石英砂產(chǎn)量低，不能滿足市場(chǎng)需求。部分原料仍需要進(jìn)口等問題都制約著下游的行業(yè)的發(fā)展。厚度10毫米毛坯的透過率（％）類別2002403001＞80＞75＞802＞75＞70＞753＞65＞70。因此，提升我國石英玻璃原材料的技術(shù)與裝備水平、擴(kuò)大電子信息產(chǎn)業(yè)用石英玻璃原材料的產(chǎn)能，打破國外技術(shù)壟斷，改變當(dāng)前主要依賴進(jìn)口的局面，已成為我國石英玻璃行業(yè)發(fā)展中一個(gè)急待解決的、具有戰(zhàn)略意義的重要課題。

質(zhì)量區(qū)域在光學(xué)鏡片中的作用非常重要 ：

以光軸為中心之一特定區(qū)域，該區(qū)域內(nèi)之表面質(zhì)量適用傷痕/亮點(diǎn)之規(guī) --品質(zhì)區(qū)域 ：以光軸為中心之一特定區(qū)域，該區(qū)域內(nèi)之表面品質(zhì)適用傷痕/亮點(diǎn)之規(guī)格，此質(zhì)量區(qū)域以外之表面，除特別規(guī)定外，對(duì)質(zhì)量沒有要求 格，此品質(zhì)區(qū)域以外之表面，除特別規(guī)定外，對(duì)品質(zhì)沒有要求  

（一般外觀檢驗(yàn)假定全球面為質(zhì)量區(qū)域） （一般外觀檢驗(yàn)假定全球面為品質(zhì)區(qū)域）  

（1）圖紙上一般均標(biāo)明允許裂邊尺寸，但裂痕與擦傷通常未標(biāo)示。  （2）--裂邊：指在鏡片邊緣之不良，鏡片邊緣表面有部份玻璃脫落。  

--裂痕：指在鏡片邊緣之不良，鏡片邊緣表面有裂痕，但玻璃未脫落。 --裂痕：指在鏡片邊緣之不良，鏡片邊緣表面有裂痕，但玻璃未脫落。  

--擦痕：指在鏡片邊緣之不良，一群短小之傷痕。 --擦痕：指在鏡片邊緣之不良，一群短小之傷痕。  

（3）除特別規(guī)定外，此三項(xiàng)不良可依裂邊之規(guī)格來判斷允收否。

光學(xué)鏡片的清潔保護(hù)方法

  光學(xué)鏡片在 機(jī)洗時(shí)鍍膜玻璃絕0不能停在清洗的刷子的下面，因?yàn)檫@樣會(huì)把膜損壞。因?yàn)槊總€(gè)清洗機(jī)的刷子的硬度都可能是不同的，通過對(duì)清洗后膜層的檢測(cè)來確定清洗機(jī)器的刷子對(duì)膜是否造成傷害。當(dāng)清洗磁控濺射真空沉積低輻射膜的鍍膜玻璃時(shí)，盡量不采用循環(huán)水，因?yàn)檫@些膜對(duì)pH值非常敏感。光學(xué)玻璃的光學(xué)系統(tǒng)常識(shí)每一品種光學(xué)玻璃對(duì)不同波長光線都有規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)折射率數(shù)值，作為光學(xué)設(shè)計(jì)者設(shè)計(jì)光學(xué)系統(tǒng)的依據(jù)。如果采用循環(huán)水，應(yīng)監(jiān)測(cè)pH值的大小。