真空滲碳淬火具有不產生晶界氧化

真空滲碳淬火 真空滲碳淬火具有不產生晶界氧化，表面力學性能高，CO2排放較少。在等離子滲碳技術普及的同時，實現(xiàn)高溫短時滲碳的低成本設備的開發(fā)和普及是主要的發(fā)展方向。但存在碳勢控制難、設備投資比氣體滲碳高、多種材料的零部件難以同時處理而且質量控制難等問題。 發(fā)展趨勢是：低價的真空滲碳爐開發(fā)會加速，同時研發(fā)適用于真空滲碳的鋼種也是重要的課題。并且開發(fā)具有低成本、氣氛自動化管理、熱處理過程—質量的一元化管理、異常時自律診斷等功能的真空滲碳設備將是主要發(fā)展方向。 可控氣氛熱處理爐有哪些爐型？ 可控氣氛熱處理爐包括帶鋼連續(xù)式光亮退火爐、氣墊式鋁材生產線退火爐、多用爐聯(lián)合機組、連續(xù)滲碳爐、輥底式爐、網帶式爐、罩式爐等。 熱處理爐有何重要作用？ 熱處理爐及其輔助設備是完成熱處理工序的必要重要裝置，這類設備對熱處理效果和產品質量起著決定性的作用

真空爐電熱元件揮發(fā)而電阻變大等因素影響

真空爐電熱元件揮發(fā)而電阻變大等因素影響真空爐設備在運行中突然出現(xiàn)故障時，應當首先觀察儀表盤上是否有提示故障或報聲音。一般使用輕質黏土磚、硅藻土磚,現(xiàn)在輕質耐火纖維氈,輕質涂料和輕質澆注料,一般輕質耐火材料的強度比較低,因此向高強輕質耐火材料方向發(fā)展。應從儀表盤上確認是哪個部分出現(xiàn)了故障，然后在針對某個部分進行篩查，或通過人員快速排出故障。真空爐加熱功率的復校隨著爐子使用時間的延長，隔熱屏的熱阻變小，電熱元件揮發(fā)而電阻變大等因素的影響，應適當增加功率。隔熱屏的維修隔熱屏在真空爐中起隔熱、保溫作用，有時也作為固定加熱器的結構基礎。

氣體氮化爐升溫前應先送氮氣排氣

氣體氮化爐升溫前應先送氮氣排氣，排氣時流量應比使用時大一倍以上。滲碳爐用密封風機裝在爐蓋上，供攪拌馬弗罐內的氣氛并使之成分均勻，同時使爐溫趨于均勻。排氣10分鐘后，將控溫儀表設定到150℃，自動加熱開關撥向開，氣體氮化爐邊排氣邊加熱150℃保持2h排氣，再將控溫儀表設定到530℃，把氨氣流量調小，保持爐內正壓，排氣口有較小氣流向上的壓力，當爐溫升到530℃時，恒溫恒流滲氮3-20h，再將氨氣壓力調大一點，讓排氣維持適中壓力，滲氮4-70h，再將氨氣壓力調小，退氮1-2h，切斷電源，給少量氨氣，使爐內維持正壓，待爐溫降到150℃以下方可停止供氨出爐。

滲碳爐結構及控制柜主回路電源

滲碳爐結構:

　　本系列滲碳爐由爐殼、爐襯、爐蓋升降機構、爐用密封風機、馬弗罐、加熱元件及電控系統(tǒng)等組成 。井式電爐間歇使用，隨著窯爐溫度的升降變化，會導致棒表面的保護膜，保護作用減弱，加快棒的電阻值變大。爐殼由鋼板及型鋼焊接而成。爐襯是由0.6g/cm3高強度超輕質節(jié)能耐火磚、硅酸鋁纖維、硅藻 土保溫磚及石棉板砌筑而成的節(jié)能型復合結構。爐蓋升降機構由電機、齒輪泵等部件組成，當開啟爐蓋 時，只需按下控制箱上的按鈕，爐蓋即以30-70毫米/秒的速度上升。在升降軸上裝設有 兩個行程開關，當爐蓋上升時，下部行程開關自動切斷滲碳爐控制柜主回路電源，使加熱元件斷電停止 工作，上部行程開關則限制升降軸升起的高度，以防升降抽升起過高而脫出。