電子束原理介紹

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售電子束產(chǎn)品，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

電子在電場(chǎng)中會(huì)受力而得到加速、提高能量，產(chǎn)生電子束。期望大家在選購電子束產(chǎn)品時(shí)多一份細(xì)心，少一份浮躁，不要錯(cuò)過細(xì)節(jié)疑問。電子束焊原理一臺(tái)電子增速器，注入的電子能量為20GeV（1GeV=109 eV，也就是10億電子伏特），相應(yīng)的電子速度為0.99999999979倍光速。電子經(jīng)增速器加速后，能量可達(dá)到100GeV，電子速度達(dá)到0.999999999987倍的光速。這說明，電子在這臺(tái)增速器里速度幾乎沒有增加，而能量增加了4倍。

電子束鍍膜與電阻鍍膜的區(qū)別

電子束蒸鍍與利用電阻進(jìn)行蒸鍍的優(yōu)勢(shì)在于：可以為待蒸發(fā)的物質(zhì)提供更高的熱量，因此蒸鍍的速率也更快；電子束定位準(zhǔn)確，可以避免坩堝材料的蒸發(fā)和污染。蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍以及離子鍍都是物理氣相沉積（PVD）的工藝方法。但是由于蒸鍍過程中需要持續(xù)水冷，對(duì)能量的利用率不高；而且由于高能電子可能帶來的二次電子可能使殘余的氣體分子電離，也有可能帶來污染。此外，大多數(shù)的化合物薄膜在被高能電子轟擊時(shí)會(huì)發(fā)生分解，這影響了薄膜的成分和結(jié)構(gòu) 。

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電子束鍍膜的濺射方式

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濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動(dòng)能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。

用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強(qiáng)，薄膜的純度高，可以同時(shí)濺射多種不同成分的材料，但是對(duì)靶材的要求高，不能象電子槍一樣節(jié)約資源。

目前運(yùn)用較多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強(qiáng)電場(chǎng)，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作比較簡(jiǎn)單的一種，所以運(yùn)用非常廣。