建筑玻璃有透光和隔熱兩個基本功能。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量，這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。而對于空間紅外輻射，普通玻璃雖能阻止室內(nèi)的熱量直接透過室外，但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會造成很大的損失。隨著經(jīng)濟的發(fā)展，普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求。而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補了普通玻璃在這一方面的不足。

       生活中我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經(jīng)過派瑞林鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。金黃色的是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN 涂層。TiN是代應(yīng)用廣泛的硬質(zhì)層材料。黑色的是在切削工具上涂了TiC、CrN涂層。鈷銅色的是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。

       釹鐵硼稀土磁性材料是一種問世不久的新型強磁材料。目前國內(nèi)常用兩種方法進行防護，一種是傳統(tǒng)的電鍍工藝在 鐵硼磁性材料表面鍍上鎳、鋅或錫、金等。這些涂層有時會影響磁性材料的表磁等特性，有的在鹽霧試驗時仍不能對釹鐵硼磁性材料提供有效的防護。另一種方法是用環(huán)氧樹脂材料進行電泳涂敷，但電泳涂敷時工件表面必須有一掛點，掛點的修補不僅費工費時，而且質(zhì)量難以保證，而Parylene涂層技術(shù)可控制涂層厚度進行無支點全涂敷防護。派瑞林（Parylene）又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，目前國外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用派瑞林（Parylene）進行防護。

       用制備派瑞林的方法是化學(xué)氣相沉積法(CVD)，反應(yīng)物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生空間氣相化學(xué)反應(yīng)，在固態(tài)基體表面直接生成固態(tài)物質(zhì)，進而在基材表面形成涂層的一種工藝技術(shù)。派瑞林薄膜制備過程為環(huán)狀二聚體在高溫下兩個相連碳碳鍵斷裂，生成具有活性的對二亞苯單體，當(dāng)其從高溫環(huán)境進入室溫環(huán)境的沉積室時，不穩(wěn)定的單體就會聚合成膜。整個制備工藝過程分為三步：單體的汽化、裂解、在基材表面進行附著沉積。

1、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于磁性材料領(lǐng)域，派瑞林的制備工藝和優(yōu)異性能相結(jié)合，使它能對小型超小型磁材進行無薄弱點全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國際上小型或者超小型磁材，幾乎都采用派瑞林鍍膜工藝作絕緣和防護涂層。

2、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于印制電路組件和元器件領(lǐng)域，鍍膜材料通過派瑞林真空鍍膜設(shè)備使得活性的對二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。氣態(tài)的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個細小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬的高純聚合物。

3、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于微電子集成電路領(lǐng)域，派瑞林的真空氣相沉積工藝不僅和微電子集成電路制作工藝相似，而且所制備的派瑞林涂層介電常數(shù)也低，還能用微電子加工工藝進行刻蝕制圖，進行再金屬化，因此派瑞林（Parylene）不僅可用作防護材料，而且也能作為結(jié)構(gòu)層中的介電材料和掩膜材料使用，經(jīng)派瑞林（Parylene）涂敷過的集成電路芯片，其25um細直徑連接線，連接強度可提高5-10倍。