根離子的主要缺點

根離子的主要缺點是對工件、鍍槽、陽極的腐蝕性大，槽液維護要求高。當鍍液含有3克/升以上的鐵離子時，就會嚴重影響鉻層的光澤與鍍液的分散能力，降低工作范圍及電流效率。因此若以根離子完全代替硫酸根離子的鍍鉻電解液，由于上述的缺陷，不能長期很好地生產(chǎn)。而采用根和硫酸根離子配合的鍍鉻電解液，應用較廣。 一般的電鍍流程:先處理一下底材表面潔凈，活化，增進電鍍效率及表面附著力;電鍍一底材表面 電鍍薄膜;后處理一將 電鍍殘留藥業(yè)去除，干燥，防止鍍層變異，品質(zhì)不良。

電拋光是利用電化學作用,使金屬零件表面平整而有光澤的工藝

什么是金屬的電拋光?答:電拋光是利用電化學作用，使金屬零件表面平整而有光澤的工藝。它可提高材料的耐腐蝕性、光反射率，與機械拋光相比較，還有生產(chǎn)率高、操作方便、勞動強度小等優(yōu)點。電拋光時，產(chǎn)生陽極溶解，使陽極附近金屬鹽濃度不斷增加，生成一種粘性薄膜(如圖)這種薄膜導電性不良，并引起陽極極化作用，使陽極電位升高;同時在零件凸凹不平的表面上薄膜的厚度分布不均勻，凸起部分薄膜厚度較小，因而電阻較小造成電力線集中，加速了凸起部分的溶解，使零件表面粗糙的凸起部分尺寸減少較快，從而達到了整平零件的目的。

如何除去鍍鎳液中的金屬雜質(zhì)?

如何除去鍍鎳液中的金屬雜質(zhì)?答:鐵離子的除去方法:調(diào)整鍍鎳液的pH值=4。加入適量的(約1～2毫升/升)，將鍍液攪拌，并加溫至70℃左右，用稀的提高鍍液的pH=6，攪拌2～3小時，再測pH值，如pH因鐵的沉淀而有所降低，再將pH提高至6。靜置過夜，過濾后加入硫酸，調(diào)整pH至正常范圍即可試鍍。銅離子的除去方法:由于銅離子的水解沉淀的pH值與鎳相接近，故用化學方法除去銅的效果不好，鎳的損耗大。用低電流密度電解的方法去除鍍鎳溶液中的銅雜質(zhì)，較為經(jīng)濟實用。

電鍍的方法有很多種,電鍍類型因材料、位置和應用等條件而異

電鍍的方法有很多種，電鍍類型因材料、位置和應用等條件而異。 電鍍主要有"濕法電鍍"和"干法電鍍"。濕法電鍍是一種利用電解和化學反應將物體放入液體中進行電鍍的方法，主要包含電鍍（電化學電鍍）和化學電鍍。一種將金屬離子浸入含有要電鍍的金屬離子的溶液中的方法，并通過直流電解將金屬離子沉積在金屬表面。電鍍層性能指標包括外觀、厚度、孔隙率、耐腐蝕性、硬度和內(nèi)部應力。外觀由被電鍍零件的精加工程度和電鍍條件決定。厚度取決于"電流強度 x 電解時間"，硬度和內(nèi)部應力因添加劑和電鍍條件而異。