如何選擇有機廢氣處理設(shè)備

1.活性炭吸附（回收溶劑法）：該設(shè)備適合廢氣濃度低于2000毫克以下，溫度為常溫。且廢氣中含有的溶劑好為單一品種。若溫度在50度到100度之間，可選配氣體冷卻裝置來降低廢氣溫度，使之達到活性炭佳吸附狀態(tài)。該設(shè)備的優(yōu)點在于運行費用低，能回收溶劑，創(chuàng)造價值。

2.直接燃燒法：該設(shè)備由于直接燃燒時使用柴油或，液化氣。運轉(zhuǎn)費用極高，形成極大的資源浪費，不主張使用該設(shè)備。以前該設(shè)備曾用于烘道：如彩涂線上的廢氣，一來可以凈化廢氣，二來可以在燃燒過程中產(chǎn)生的熱量用于烘道加熱。但近年來，由于催化燃燒裝置的大量運用，已逐漸被催化燃燒所替代，如：華西彩涂線上采用2套催化燃燒裝置。

3.催化燃燒裝置（電加熱式）：該設(shè)備適合廢氣濃度在2000毫克—6000毫克之間?；驈U氣溫度大于180度（在該溫度的廢氣濃度可低于2000毫克也可以）。溫度如在120-150之間也可以通過換熱器換熱使之溫度提高，從而達到省能的目的。但廢氣中如含有硫等有害于催化劑的成分不適合該設(shè)備。該設(shè)備的缺點：電加熱能耗大，啟動功率高，適合范圍有一定的局限性。

4.催化燃燒裝置（紅外線加熱式）：該設(shè)備與以上使用功能完全一樣，僅僅在加熱方式上做了重大革命，本裝置是電加熱室催化燃燒裝置的替代品，大的優(yōu)點在于節(jié)省能耗。它的能耗僅為電加熱室的幾分之一。特別適合大風(fēng)量，高濃度廢氣。例如：30000風(fēng)量的催化燃燒設(shè)備，采用電加熱式，啟動功率達到幾百個千瓦，而用紅外線加熱法，啟動功率僅為10多公斤液化氣。

5.濃縮法（活性炭吸附加催化燃燒裝置）：該設(shè)備適合大風(fēng)量低濃度廢氣。尤其適合噴漆廢氣治理，原因在于噴漆廢氣通常是風(fēng)量大，又是常溫。

6.液體洗滌法：該設(shè)備適合含有油類，或單一品種的。通過液體接觸，達到凈化要求。該設(shè)備的大的優(yōu)點用于處理混合廢氣時作為一級凈化裝置或作為廢氣的預(yù)處理裝置。廢氣中含有顆粒物也非常合適。

廢氣處理工藝流程

1.惡臭物質(zhì)能否被裂解，取決于其化學(xué)鍵鍵能是否比所提供的UV 光子的能量要低。

2.裂解時間是否足夠1S，氧化反應(yīng)的時間是否達到5-8S;

3.提供的 UV 光子總功率不夠或者含氧量不足，會因為裂解或氧化不完全而生成一些中間副產(chǎn)物，從而影響凈化效率。對于高濃度大分子的有機惡臭物質(zhì)體現(xiàn)得較為明顯。

4.UV 光解凈化的長期穩(wěn)定、，需要反應(yīng)溫度<60℃，粉塵量<100mg/m 3 ，相對濕度<97%。

5.廢氣物質(zhì)中若某種特殊化學(xué)元素的含有量過高 (如 Cl、 F 等) ，也會導(dǎo)致強化劑臭氧的生成量大大降低，終影響總體的凈化效果。

光催化設(shè)備，又稱光催化氧化設(shè)備，常用于光降解及光化學(xué)危廢處理。

光催化設(shè)備主要包含兩個重要的部分，一是光源，二是光催化劑。其具體的作用機理是光源發(fā)出的光（通常為紫外光）照射到光催化劑（常為半導(dǎo)體材料，如二氧化鈦等）上使電子發(fā)生躍遷，通過與吸附氧作用生成具有較強氧化性的活性氧，從而氧化清除表面有機物或者細菌（病毒）。

風(fēng)量的巨細，是挑選廢氣處理設(shè)備的重要因素之一，例如設(shè)備處理風(fēng)量小于實踐風(fēng)量，則會形成部分廢氣未通過處理就排放了，達不到排放規(guī)范；相反，處理風(fēng)量大于實踐風(fēng)量，則會形成不必要的處理費用，添加運轉(zhuǎn)的本錢，所以需依據(jù)實踐的風(fēng)量來挑選合適的廢氣處理設(shè)備類型?？臻g，假如工廠空間大，則直接挑選性價比高的廢氣處理設(shè)備就可以，假如受到空間的約束，則應(yīng)挑選可依據(jù)實地空間巨細定制的廢氣處理設(shè)備來有用處理。