電子束鍍膜原理

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電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料，電子的動能轉(zhuǎn)換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發(fā)，并成膜。電子槍有直射式、環(huán)型和E型之分。超高真空密封主要采用如下技術(shù)：玻璃金屬焊接技術(shù)、陶瓷金屬焊接技術(shù)、刀口無氧銅金屬密封技術(shù)等，整機主要采用金屬密封技術(shù)，前開門用氟膠圈，真空管路用不銹鋼金屬波紋管路（不用橡膠管路），采用高真空閥門。電子束加熱蒸鍍的特點是能獲得極高的能量密度，可達(dá)109w/cm2，加熱溫度可達(dá)3000～6000℃，可以蒸發(fā)難熔金屬或化合物;被蒸發(fā)材料置于水冷的坩堝中，可避免坩堝材料的污染，制備高純薄膜；另外，由于蒸發(fā)物加熱面積小，因而熱輻射損失減少，熱效率較高。但結(jié)構(gòu)較復(fù)雜，且對較多的化合物，由于電子的轟擊有可能分解，故不適合多數(shù)化合物的蒸鍍。

電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備簡介

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售電子束，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備采用完全封閉的系統(tǒng)框架，結(jié)構(gòu)緊湊，外觀更漂亮，使用更安全。電子束鍍膜機部件介紹鍍膜室：采用立式、前開門結(jié)構(gòu)，外壁通冷卻水。6-10KW e型電子槍可選國產(chǎn)或進(jìn)口，可選配離子束清洗及輔助鍍膜功能。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于科研院所、高校在片狀、半球狀、異形基底表面制備金屬/化合物（ITO等氧化物）/導(dǎo)電薄膜/光學(xué)薄膜等。