電子束鍍膜機介紹

* 帶旋轉(zhuǎn)的傾斜沉積

* 行星式基片夾具

* 基片RF/DC偏壓

* 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍

* 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）

* 用于反應蒸鍍的MFC

* 不同的泵組選擇，可升級分子泵為冷泵，前級泵為干泵

* 進樣室和自動上下片/可支持單片和25片片夾

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電子束鍍膜屬于蒸鍍還是濺射？

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1.蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍以及離子鍍都是物理氣相沉積（PVD）的工藝方法。

2.蒸發(fā)鍍主要包括：電阻加熱蒸發(fā)、感應加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、激光加熱蒸發(fā)、離子束蒸鍍等。

3.您所說的E型槍鍍膜和直型電子槍鍍膜都是屬于熱蒸發(fā)鍍膜的范疇。

4.S槍濺射實際就是錐形磁控濺射靶，陰極靶材為環(huán)狀錐形，安裝在水冷座上。環(huán)狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場，其平行靶面的磁場分量和垂直于靶面的電場分量形成正交電磁場。電子束被約束在靶面附近運動，電子流密度很大，在靶面附近產(chǎn)生很強的非彈性碰撞，電離幾率很大，形成很強的等離子體。電子束操作及注意事項①電子槍工作前必須檢查水流是否正常，工作過程中務必保證水壓、水流量指示，否則將造成坩堝損壞。