微弧氧化產(chǎn)生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉(zhuǎn)變和結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。3、不氧化的鋁放在空氣中很容易被腐蝕掉，從而出現(xiàn)黃斑或者黑斑，而氧化的產(chǎn)品長時間放在空氣中不會出現(xiàn)現(xiàn)象。在微弧氧化的過程下，原來生產(chǎn)的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時間的延長，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應的厚度。經(jīng)測試，微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。微弧氧化技術優(yōu)勢、微弧氧化設備、微弧氧化電源

微弧氧化的工藝參數(shù)

       微弧氧化的工藝參數(shù)是指加工件上的外加電壓，一般說終電壓決定微弧氧化膜的厚度，它是不斷升高而達到的，不能一次性加至終電壓。微弧氧化又稱微等離子體氧化、陽極火花沉積或火花放電陽極氧化,，還有人稱之為等離子體增強電化學表面陶瓷化。微弧氧化膜的基本特性是與待處理材料及其表面狀態(tài)有關的，也與槽液類型、電解質(zhì)溶液成、外加電壓、電流密度、槽液溫度和攪拌等因素有關。其中特別是加在工件上的電壓與電流密度對于氧化膜的性能至關重要。微弧氧化過程中有一個很大的優(yōu)點就是外加電源突然中斷時可以直接繼續(xù)進行氧化，不需要除去工件上的氧化膜，也不必更換樣品重新處理。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化的優(yōu)勢

       微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術，微弧氧化技術是近十幾年在陽極氧化基礎上發(fā)展起來的，但兩者在機理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右）膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。所謂等離子體就是由大量的自由電子和離子組成，且在整體上表現(xiàn)為電中性的物質(zhì)，它被稱為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)以外的第四態(tài)。處于熱等離子態(tài)的物質(zhì)具有強的導電性，且能量集中，溫度較高，是一個高熱、高溫的能源。與傳統(tǒng)的陽極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應用前景。