多弧離子真空磁控濺射鍍膜機(jī)工作原理蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

多弧離子鍍膜機(jī)是一種、無害、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)略、本錢低、出產(chǎn)量大的長(zhǎng)處。

真空多弧離子鍍膜機(jī)偏壓電源的作業(yè)原理

離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關(guān)于導(dǎo)電靶材，運(yùn)用直流偏壓電源；非導(dǎo)電靶材，運(yùn)用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機(jī)，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源

偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構(gòu)成偏壓電場(chǎng)，通常是陰極加負(fù)高壓。陰極外表的自由電子在電場(chǎng)效果下定向加快發(fā)射，發(fā)射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅(qū)出的電子被電場(chǎng)加快，持續(xù)電離別的氣體分子，接二連三，構(gòu)成雪崩效應(yīng)，氣體被擊穿，構(gòu)成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅(qū)除出外表，并堆積在樣品外表。

多弧離子鍍膜機(jī)的運(yùn)用

多弧離子鍍膜機(jī)用于不一樣層次五金商品，通常的修建五金件、鎖具，用多弧離子鍍膜設(shè)備可擔(dān)任，中高層次商品如表帶、表殼、眼鏡框、手機(jī)殼、高爾夫球具、衛(wèi)浴潔具、飾品等，通常選用電弧/中頻（ 直流）磁控濺射復(fù)合型鍍膜設(shè)備，依據(jù)裝載量選用巨細(xì)機(jī)型。該設(shè)備可鍍黃金色、玫瑰金、咖啡色、棕色、古銅色、藍(lán)色等裝修膜。

蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

蒸發(fā)系統(tǒng)由蒸發(fā)源、送絲機(jī)構(gòu)、水冷擋板等組成。HD1500-12型高真空卷繞鍍膜機(jī)所用的蒸發(fā)源為氮化硼蒸發(fā)舟，它具有耐腐蝕、耐熱性能優(yōu)良、蒸鍍層純度高等特點(diǎn)。采用電阻加熱方式，由送絲機(jī)構(gòu)將鋁線連續(xù)不斷地送到對(duì)應(yīng)的蒸發(fā)舟表面，使它們迅速加熱得以蒸發(fā)。

蒸發(fā)舟的兩端各裝在正、負(fù)電極上，采用端部嵌入夾緊方式，縫隙墊以石墨紙。電極均采用內(nèi)部水冷結(jié)構(gòu)，避免發(fā)熱燒毀。每組蒸發(fā)源的功率可通過操作面板上的電位器進(jìn)行單獨(dú)調(diào)節(jié)，也可以整體調(diào)節(jié)。

送絲機(jī)構(gòu)包括交流電機(jī)、減速器、摩擦壓輪組等，交流電機(jī)聯(lián)接減速器通過鏈輪驅(qū)動(dòng)串接在傳動(dòng)軸上的每組壓輪，實(shí)現(xiàn)鋁絲的同步輸送，送絲的速度由變頻器控制，可通過操作面板上的加速或減速按鈕進(jìn)行調(diào)節(jié)，速度值在觸摸屏中顯示。

水冷擋板由固定的蒸發(fā)槽和活動(dòng)擋板組成，兩者都要通水冷卻。蒸發(fā)槽安裝在底板上，主要用于阻止熱量向四周及下面擴(kuò)散，活動(dòng)擋板在蒸發(fā)槽的上面，通過真空室外部的氣動(dòng)裝置可將其打開或關(guān)閉，它是用于在蒸發(fā)舟進(jìn)行預(yù)加熱和卷繞系統(tǒng)未啟動(dòng)或運(yùn)轉(zhuǎn)速度較慢時(shí)隔絕熱源對(duì)基材的輻射，避免基材燒損。

真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法

真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法 1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因?yàn)楸∧ぴ谏L(zhǎng)的過程中，由于干涉現(xiàn)象會(huì)有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗(yàn)。 2、極值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時(shí)候其反射率和穿透率會(huì)跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時(shí)候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長(zhǎng)（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因?yàn)楫?dāng)反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長(zhǎng)處。 3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長(zhǎng)四分之一波位，然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長(zhǎng)一時(shí)總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點(diǎn)。

鍍膜設(shè)備工藝要求

鍍膜設(shè)備工藝要求： 真空度不得低于103PA，避免呈現(xiàn)褐色條紋或鋁層厚度不均表象;操控好體系張力，敞開冷卻體系，避免薄膜受熱呈現(xiàn)拉伸變形;準(zhǔn)確操控卷取速度(280～320m/min)、送鋁速度(0.4～0.7m/min?2mm鋁絲)及蒸騰舟加熱電流，以取得商品請(qǐng)求的鋁層厚度(100～300A°);可預(yù)先在薄膜上涂布必定干量的底膠，并充沛枯燥，再經(jīng)真空鍍鋁，可進(jìn)步鋁層與薄膜的結(jié)合力。然后在鋁膜上涂布必定量的維護(hù)樹脂，避免鋁層氧化蛻變。經(jīng)此技術(shù)構(gòu)成的鍍鋁薄膜，耐摩擦，且不易蛻變。