公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

使用無掩模光刻機(jī)讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進(jìn)行非接觸式曝光（曝光波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)

經(jīng)過顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層

業(yè)內(nèi)又稱光掩模版、掩膜版，英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK），材質(zhì)：石英玻璃、金屬鉻和感光膠，該產(chǎn)品是由石英玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，把已設(shè)計(jì)好的電路圖形通過電子激光設(shè)備曝光在感光膠上,被曝光的區(qū)域會被顯影出來，在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光掩模版，然后應(yīng)用于對集成電路進(jìn)行投影定位，通過集成電路光刻機(jī)對所投影的電路進(jìn)行光蝕刻，其生產(chǎn)加工工序?yàn)椋浩毓猓@影，去感光膠，后應(yīng)用于光蝕刻。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。

刻蝕或離子注入完成后，將進(jìn)行光刻的后一步，即將光刻膠去除，以方便進(jìn)行半導(dǎo)體器件制造的其他步驟。如需要烤版，烤版時(shí)要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。通常，半導(dǎo)體器件制造整個過程中，會進(jìn)行很多次光刻流程。生產(chǎn)復(fù)雜集成電路的工藝過程中可能需要進(jìn)行多達(dá)50步光刻，而生產(chǎn)薄膜所需的光刻次數(shù)會少一些。