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炬管用多久應(yīng)該更換?炬管與錐有什么關(guān)系?
答
1、正常情況下,一年應(yīng)該沒(méi)問(wèn)題的,不過(guò)你得時(shí)常注意你的錐哦!
2、錐孔處很容易積鹽份的,時(shí)間一長(zhǎng)影響分析的穩(wěn)定性和儀器的靈敏度。
問(wèn)
請(qǐng)問(wèn)怎樣降低ICP-MS霧1化器流速而又對(duì)其靈敏度影響較小?怎樣減小其背景值?
1、可以更換的流量的霧1化器;
2、霧1化器流速受控于蠕動(dòng)泵轉(zhuǎn)速,你可以降低蠕動(dòng)泵的轉(zhuǎn)速試試;
3、霧化效率對(duì)靈敏度有很大影響,但是,霧1化器流速對(duì)靈敏度影響不大;
4、背景值與儀器的噪音、實(shí)驗(yàn)用去離子水以及離子檢測(cè)器靈敏度有關(guān);想降低背景值,主要還是用合格的去離子水比較有效;經(jīng)常合理清洗進(jìn)樣管道,即,開(kāi)機(jī)和關(guān)機(jī)時(shí)用去離子水清洗好再關(guān)機(jī)和實(shí)驗(yàn);盡量要避免過(guò)高濃度的樣品進(jìn)入,這樣會(huì)給儀器造成不必要的污染、降低檢測(cè)器的壽命;
5、選擇低流量有效霧1化器可以在減少進(jìn)樣量的情況下不影響靈敏度。背景值與儀器的離子光學(xué)系統(tǒng)及四極桿、檢測(cè)器還有信號(hào)處理有關(guān),背景值與空白值不是同一個(gè)概念;
6、不妨加酒精試試,ICP-AES好用;
分子泵在未點(diǎn)火的情況下自己停了,再抽真空時(shí)分子泵的轉(zhuǎn)速到600左右時(shí)就再也上不去了,什么原因?
1、真空顯示有多少?是不是有漏?或者分子泵軸承有問(wèn)題了?
2、的可能是哪里漏氣了,如果不行,趕緊聯(lián)系廠家吧!否則,分子泵壞了可麻煩了!
2、會(huì)不會(huì)是鹽的干擾問(wèn)題,海水樣品中的鹽濃度超高的,不過(guò)應(yīng)該不會(huì)偏離太大,正負(fù)應(yīng)該在10%左右吧,太大就要看你的內(nèi)標(biāo)液配置是否有問(wèn)題了,還有可能是樣品污染問(wèn)題,很多方面呢,自己把每一步可能出現(xiàn)的問(wèn)題逐步排除一下,應(yīng)該能找出原因的。
今天開(kāi)機(jī)后點(diǎn)火,總是剛點(diǎn)著就滅了,一直點(diǎn)不著!
1、將氣壓力調(diào)大一點(diǎn),把錐和炬管從裝一次。
2、可能是氣不純,也可能是錐沒(méi)有裝好。
3、一是點(diǎn)火過(guò)程中的真空度不夠,如果,真空沒(méi)有問(wèn)題,看看電壓,你的輸入電壓與儀器內(nèi)調(diào)試電壓看差別大不大,如果超過(guò)10V點(diǎn)火就不是很順利。
4、可能真空有問(wèn)題的說(shuō)或者是炬管之類的內(nèi)有較少存液。
MS的穩(wěn)定時(shí)間究竟有多長(zhǎng),4小時(shí)以后,Cu的濃度3PPb變?yōu)?0PPb,重質(zhì)量數(shù)變化不大,輕質(zhì)量變化大,特別是Cu。大家出現(xiàn)過(guò)這種情況嗎?
1、ICP-MS長(zhǎng)期穩(wěn)定性還不錯(cuò),驗(yàn)收時(shí)2小時(shí)的5種元素的計(jì)數(shù)RSD<3%你測(cè)的Gu的濃度增大,是不是你的樣品溶液有所變化呢?
2、錐的問(wèn)題。
3、如出現(xiàn)此現(xiàn)象,可將錐取出清洗或換新錐。
電感耦合等離子體質(zhì)譜法測(cè)定化妝品中的37種元素
立電感耦合等離子體質(zhì)譜法測(cè)定化妝品中37種元素的檢測(cè)方法,根據(jù)化妝品不同基質(zhì),選用-微波消解體系或-濕法消解體系,采用在線內(nèi)標(biāo)及碰撞反應(yīng)池技術(shù)校正機(jī)體效應(yīng),外標(biāo)法
定量進(jìn)行ICP-MS測(cè)定。方法檢出限1 ~ 80瞄/kg,線性相關(guān)系數(shù)均大于0.997, RSD為1.0% - 8.9%, 加標(biāo)回收率為81.3% ~ 115.2%。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該方法簡(jiǎn)便、快速、靈敏度高、準(zhǔn)確性好,適用于化妝品中37種元素的同時(shí)測(cè)定。
鋼研納克國(guó)產(chǎn)ICP-MS具有多元素同時(shí)檢測(cè)的優(yōu)勢(shì),靈敏度高、 線性范圍寬,既適用于樣品中痕量元素的檢測(cè)也能同時(shí)滿足微量元素的測(cè)定。ICP-MS分析中干擾問(wèn)題是影響分析 結(jié)果準(zhǔn)確度和精密度的障礙,其主要的干擾方式分為質(zhì)譜干擾、基體干擾和物理效應(yīng)干擾三大類。質(zhì)譜干擾
可通過(guò)選擇合適的同位素離子及儀器校正消除;物理干擾可通過(guò)清洗霧化室,進(jìn)樣錐及進(jìn)樣管路消除;基體干擾 是指復(fù)雜的基體引起的ICP平衡的轉(zhuǎn)變,對(duì)待側(cè)元素的質(zhì)譜信號(hào)產(chǎn)生抑制或增應(yīng),可采用加入內(nèi)標(biāo)元素校正
和采用碰撞/反應(yīng)池技術(shù)消除。針對(duì)化妝品的不同劑型,應(yīng)用微波消解和濕法消解體系,建立了電感耦合等離子體 質(zhì)譜對(duì)8類化妝品中37種元素的測(cè)定方法,為化妝品中重金屬及其他有害元素的監(jiān)測(cè)提供了技術(shù)支持。