、工作溫度：不同的鍍膜需要不同的溫度，比如鍍金色TiN，溫度580℃。鍍銀灰色TiCN溫度是450℃。

2、工作時(shí)間：由于不同鍍膜需要的溫度不同，以致不同的鍍膜需要不同的時(shí)間來(lái)控制；

3、材料本身：產(chǎn)地、厚度、規(guī)格、內(nèi)部構(gòu)成化學(xué)元素、表面初始加工的相似度；

4、真空鍍膜材料：目前真空鍍膜常規(guī)材料大致有：碳化鈦、氮化鈦、碳氮化鈦等，可以滿(mǎn)足市面常規(guī)（普通）的鍍膜需要，比較的鍍膜材料有氮化鈦鋁，氮化鉻膜等，用于加工比較復(fù)雜、的顏色；

5、不同的加工環(huán)境、不同的鍍鈦爐、不同的鍍鈦技工的處理方式都會(huì)對(duì)鍍鈦結(jié)果產(chǎn)生不同程度的影響；

6、由于不銹鋼表面加工工序的復(fù)雜性，每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的，這就直接影響到終成品的表面色澤，這也是目前該行業(yè)技術(shù)上的一個(gè)瓶頸。

鍍層附著性能好

普通真空鍍膜時(shí)，在工件表面與鍍層之間幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層，好似截然分開(kāi)。其缺點(diǎn)是：1）工藝比傳統(tǒng)單色PVD的更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高。而離子鍍時(shí)，離子高速轟擊工件時(shí)，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，對(duì)離子鍍后的試件作拉伸試驗(yàn)表明，一直拉到快要斷裂時(shí)，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無(wú)起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生,可見(jiàn)附著多么牢固，膜層均勻，致密。

濺射技術(shù):

濺射技術(shù)按產(chǎn)生等離子體的方式可分為:

a. 利用直流輝光放電的二極濺射;

b. 利用熱絲弧光放電的三極濺射;

c. 利用射頻放電的射頻濺射;

d. 利用封閉跑道磁場(chǎng)控制輝光放電的磁控濺射.

2 磁控濺射陰極結(jié)構(gòu):

目前工業(yè)用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a),一般使用的靶材尺寸有兩種規(guī)格: VT機(jī):長(zhǎng)×寬×厚(450.5×120×6)mm; ZCK機(jī): 460×100×6.圓柱形磁控濺射陰極也逐步運(yùn)用到生產(chǎn)當(dāng)中(圖b),兩者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.