普通真空鍍膜時，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗(yàn)表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生，可見附著多么牢固，膜層均勻，致密。

       伴隨著耳機(jī)等產(chǎn)品的毛利的逐步下降以及小眾低價產(chǎn)品的沖擊，再加上貿(mào)易摩擦導(dǎo)致的成本上升和銷量的下降，許多制造商都在考慮進(jìn)一步降低成本，比如在使用納米涂層這類輔助材料時也有很多制造商采購了一些市場上廉價的涂層產(chǎn)品，然而在著重考慮降成本的同時并未對材料是否真正環(huán)保做出檢測和評定，比如一款氣味低、不的納米涂層產(chǎn)品并不能代表他是無毒的，青山新材始終堅(jiān)持做符合環(huán)保要求的涂層產(chǎn)品，從不為客戶提供有毒致癌的納米涂層。納米涂層僅指涂層是納米級厚度，但并非納米涂層就一定是環(huán)保涂層，這是兩個概念，一個是形態(tài)問題，一個是材料成分問題。

       近日我們與國內(nèi)材料實(shí)驗(yàn)室一道對市面上的一些廉價納米涂層的環(huán)保性能進(jìn)行了分析檢測，檢測結(jié)果很驚人，發(fā)現(xiàn)有些涂層含有、等物質(zhì)，、是無色透明不燃燒的，被一些廉價納米涂層產(chǎn)品所采用，可以表象上給人以不燃燒、膜層薄、氣味較低、固化快等迷惑性特征，商家只注重于宣稱是納米涂層，然而其所包含的這些物質(zhì)都屬于致癌物類別，長期接觸將對人體產(chǎn)生極大的危害。由于這些涂層原材料廉價因而可以以很低的價格售賣。

       原子層沉積（ALD）是一種沉積原子級薄膜的技術(shù)，它是以一種連續(xù)脈沖的方式在樣品表面和反應(yīng)前驅(qū)體材料之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。與傳統(tǒng)的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)相比，沉積速率相對較慢，但是它可在高深寬比的溝槽和通孔結(jié)構(gòu)上沉積均勻薄膜。另外，在原子層沉積過程中，樣品表面上沒有物理和電學(xué)損傷，而在PECVD過程中由于離子轟擊這種損傷卻不可避免。此外，通過使用不同的反應(yīng)材料可沉積各種薄膜（氧化物，氟化物，氮化物，金屬等）。