微弧氧化槽液

       微弧氧化主要針對(duì)鋁、鎂、鈦、等閥金屬（閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬）。微弧氧化處理可在酸性和堿性電解液中進(jìn)行，但由于酸性電解液對(duì)環(huán)境污染性較大現(xiàn)已較少使用。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等，在單一或者它們的復(fù)合電解液中，增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等，以達(dá)到提高膜層生長(zhǎng)速率和致密性等或者功能性膜層的目的。微弧氧化槽液微弧氧化主要針對(duì)鋁、鎂、鈦、等閥金屬（閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬）。微弧氧化處理應(yīng)根據(jù)基體材料的種類選用合適的電解液體系。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)

       微弧氧化產(chǎn)生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉(zhuǎn)變和結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。在微弧氧化的過(guò)程下，原來(lái)生產(chǎn)的氧化膜不會(huì)脫落，只有表面一部分氧化膜可能會(huì)被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時(shí)間的延長(zhǎng)，微弧氧化膜厚度會(huì)不斷增加，直至達(dá)到外加電壓所對(duì)應(yīng)的厚度。固體絕緣材料中空間電荷的存在使得原來(lái)的電場(chǎng)發(fā)生畸變，使局部電場(chǎng)加強(qiáng)，導(dǎo)致氧化膜擊穿，產(chǎn)生火花放電。經(jīng)測(cè)試，微弧氧化膜的厚度可達(dá)到200-300μm。微弧氧化技術(shù)優(yōu)勢(shì)、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化電源

微弧氧化技術(shù)應(yīng)用前景

      微弧氧化技術(shù)具有很多優(yōu)點(diǎn)，如工藝簡(jiǎn)單、不引入有毒物，符合當(dāng)今清潔生產(chǎn)發(fā)展的要求，對(duì)要處理的零件形狀沒有特殊要求，特別是對(duì)異型零件、孔洞、焊縫的可加工能力強(qiáng)于其他表面陶瓷化工藝，因此微弧氧化技術(shù)在軍事、航空、航天、鐵路、機(jī)械、紡織、汽車、、電子、裝飾等許多領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。采用微弧氧化技術(shù)所制備的陶瓷膜同時(shí)具備了陽(yáng)極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優(yōu)點(diǎn)，可以部分替代陽(yáng)極氧化膜和陶瓷噴涂的產(chǎn)品。溶液電導(dǎo)率：溶液電導(dǎo)率對(duì)微弧氧化工業(yè)鋁型材的生長(zhǎng)速度和致密度都有影響。