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PVD中頻離子鍍膜設(shè)備報(bào)價(jià),至成鍍膜設(shè)備制造廠家

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發(fā)布時間:2020-07-24 06:45  









用真空鍍膜技術(shù)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的電鍍工藝有哪些優(yōu)勢


用真空鍍膜技術(shù)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的電鍍工藝,不但能節(jié)省大量的膜材和降低能耗,而且還會消除濕法鍍膜中所產(chǎn)生的環(huán)境污染。因此國外在鋼鐵零件涂鍍防腐層和保護(hù)膜方面,已采用真空鍍膜工藝來代替電鍍工藝。在冶金工業(yè)中,為鋼鐵和帶鋼加鍍鋁防護(hù)層已很普遍;在機(jī)械制造業(yè)中,真空鍍膜工藝用于改變改變某些加工工藝和節(jié)約貴重的原材料,如飛機(jī)渦輪發(fā)動機(jī)的葉片已經(jīng)不用價(jià)格昂貴的耐高溫金屬制造,而是采用價(jià)格低廉易加工材料,成形后再用真空鍍膜的方法在葉片表面上加鍍耐高溫,耐腐蝕的防護(hù)層。再如汽車制造業(yè)中采用塑料制品金屬化零件代替各種金屬零件,既減輕了汽車的重量又節(jié)約了燃油的消耗。在金屬切削刀具上加鍍TiN硬膜可使用刀具壽命提高3~6倍,從而節(jié)省了大量的高速鋼材。塑料薄膜采用真空磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜的方法加鍍鋁等金屬膜,再進(jìn)行染色,可得到用于工業(yè)中的裝飾品薄膜。



箱式真空鍍膜機(jī)


采用箱式結(jié)構(gòu),真空系統(tǒng)后置,便于操作和維修;整機(jī)表面平整,方便清潔,特別適合放置在凈化間內(nèi)做穿墻式安裝。

設(shè)備真空系統(tǒng)抽速大,具有抽氣時間短,真空度高,生產(chǎn)周期短等優(yōu)點(diǎn)。

采用管狀加熱器上烘烤,烘烤溫度均勻,壽命長,可達(dá)到烘烤溫度350℃,烘烤均勻性270℃±10℃。

工件轉(zhuǎn)動采用上部中心驅(qū)動,軸承帶水冷,磁流體密封,轉(zhuǎn)動平穩(wěn)可靠。

采用石英晶體膜厚控制儀,可實(shí)現(xiàn)鍍膜過程的自動控制。

采用先進(jìn)的鍍膜控制系統(tǒng),人機(jī)操作界面美觀實(shí)用,系統(tǒng)穩(wěn)定可靠,可實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的手動、半自動和全自動操作。

適用范圍:用于生產(chǎn)IR-CUT濾光片、分色濾光片、高反射膜、AR膜、長波通、短波通和多種電學(xué)薄膜



真空鍍膜設(shè)備鍍膜過程的均勻性到底多重要?

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過程的均勻性到底多重要? 厚度均勻性主要取決于: 1、基片材料與靶材的晶格匹配程度;2、基片表面溫度;3、蒸發(fā)功率,速率;4、真空度;5、鍍膜時間,厚度大小。組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性:1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發(fā)速率. 對于不同的濺射材料和基片,參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定,是各不相同的,鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫,能否保證好的真空度,能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù),已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問題,但是基本用于實(shí)驗(yàn)研究,工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。


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