電子束鍍膜原理

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電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料，電子的動(dòng)能轉(zhuǎn)換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發(fā)，并成膜。電子槍有直射式、環(huán)型和E型之分。沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司擁有先進(jìn)的技術(shù)，我們都以質(zhì)量為本，信譽(yù)高，我們竭誠(chéng)歡迎廣大的顧客來(lái)公司洽談業(yè)務(wù)。電子束加熱蒸鍍的特點(diǎn)是能獲得極高的能量密度，可達(dá)109w/cm2，加熱溫度可達(dá)3000～6000℃，可以蒸發(fā)難熔金屬或化合物;被蒸發(fā)材料置于水冷的坩堝中，可避免坩堝材料的污染，制備高純薄膜；另外，由于蒸發(fā)物加熱面積小，因而熱輻射損失減少，熱效率較高。但結(jié)構(gòu)較復(fù)雜，且對(duì)較多的化合物，由于電子的轟擊有可能分解，故不適合多數(shù)化合物的蒸鍍。

電子束鍍膜有哪些特點(diǎn)？

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★ 完全封閉的系統(tǒng)框架設(shè)計(jì)，外觀更漂亮，使用更安全；是一臺(tái)兼具美學(xué)和用戶(hù)操控體驗(yàn)的全新升級(jí)產(chǎn)品；

★ 前開(kāi)門(mén)真空腔體，方便取放基片、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護(hù)；

★ 可定制一體化高的精度刻蝕掩膜板；基片臺(tái)公轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0～25rpm連續(xù)可調(diào)；平板基底襯底可選擇加熱或水冷；

★ 更優(yōu)的薄膜均勻性和重復(fù)性，采用進(jìn)口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測(cè)和控制蒸發(fā)速率、膜厚；

★ 可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ti, Pt, Mo, Fe, Cr, Ni等）、化合物（ITO等）及有機(jī)物材料（進(jìn)口電子槍?zhuān)?