油墨高速捏合機,顏料高速混合機,丁基膠高速混合機,阻尼材料高速濕法制粒機

一、濕法制粒機清洗系統(tǒng)簡介

濕法制粒機是用以將潮濕的粉料研制成所需的顆粒，也可將塊狀的干料粉碎到所需的顆粒，濕法制成的顆粒經(jīng)過表面潤濕，具有顆粒質(zhì)量好，外形美觀、耐磨性較強、壓縮成型性好等優(yōu)點，在制藥工業(yè)中應用為廣泛。

在對物料進行制粒時，由于制粒的物料不同，在制粒完成一種物料后，為了保證制粒的質(zhì)量和效果，需要經(jīng)過清洗后才能對后一種物料進行制粒，然而現(xiàn)有的濕法制粒機的清洗設(shè)備只是對制粒的鍋體進行清洗，清洗后的清洗液通過出料口排出，在實際操作過程中，排出的清洗液的很多殘渣會留在出料口，從而對后續(xù)制粒顆粒造成極大的影響。目前的濕法混合制粒機包括基座、料缸、攪拌機構(gòu)和制粒機構(gòu)等，工作過程中通過攪拌機構(gòu)旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的渦流作用使物料充分混合。

磷酸鐵鋰濕法制粒機,三元材料濕法混合制粒機

一、濕法制粒機產(chǎn)品說明：

適用于化工、食品等行業(yè)中粉與粉之混合、粉與粘合劑之造粒。濕法制粒機已通過省級新產(chǎn)品鑒定，并通過歐盟CE標志認證。

二、濕法制粒機性能特點：

1.整機由可編程序控制（人機界面--選件），統(tǒng)一工藝，確保質(zhì)量穩(wěn)定，亦可進行手動操作，便于摸索工藝參數(shù)和流程。

2.攪拌槳與切割刀均采用變頻調(diào)速，易于控制顆粒大小。

3.轉(zhuǎn)動軸腔充氣密封，消除了粉塵粘結(jié)現(xiàn)象。帶自動清洗功能。

4.圓錐形料槽，使物料翻滾均勻。槽底為夾層，內(nèi)置水冷循環(huán)系統(tǒng)，恒溫性能比一般氣冷系統(tǒng)好，提高了顆粒質(zhì)量。

5.鍋蓋自動開啟、關(guān)閉，出料口與干燥設(shè)備相匹配，大機型自帶扶梯，便于操作。

6.帶漿葉升降系統(tǒng)，更有利于漿葉和鍋體清洗。

三、濕法制粒機工作原理：

1.整個過程由混合、制粒兩個工序組成。

2.粘合劑從錐形料斗進入物料鍋，待料斗關(guān)閉后在混合槳的攪拌下，粉料在容器內(nèi)作旋轉(zhuǎn)運動，同時物料沿錐形壁方向變化，逐步生成液橋。當制粒機制粒完成后需要對其他物料進行制粒時，需要對制粒機進行清洗，通過設(shè)置在鍋蓋上的在位清洗噴頭，對鍋體內(nèi)部進行噴霧清洗，并通過出料口排出，然后通過設(shè)置在出料組件第二在位清洗噴頭對出料口進行清洗，從而達到徹底清洗的效果。在槳葉和筒壁對物料的擠壓、磨擦、捏合的作用下，物料逐步轉(zhuǎn)變?yōu)槭杷傻牟馁|(zhì)。然后，開啟出料門，濕顆粒在槳葉離心力作用下推動出料斗。

3.團粒結(jié)構(gòu)的軟材料不是通過強制擠壓而成粒，而是通過制粒刀的切割，軟材在半流動狀態(tài)下被切割成細小而均勻的顆粒，實現(xiàn)了物料的互相轉(zhuǎn)變。

濕法制粒機，濕法混合制粒機

SMG系列濕法制粒機--簡介

濕法制粒機產(chǎn)品采取臥式、全包結(jié)構(gòu)，外形簡潔、無死角，易清洗。該產(chǎn)品設(shè)計合理，采用了先進的旋壓和拉伸工藝技術(shù)，制造精良，攪拌軸和制粒軸均采用了迷宮式氣密封。同時設(shè)計有多項安全聯(lián)鎖裝置，使用安全。各機型特點如下：

SMG-50型濕法制粒機：攪拌槳和制粒刀均雙速驅(qū)動，采用按鈕操作模式，操作直觀，維護簡單方便。

1.自行設(shè)計了攪拌軸傳動系統(tǒng)，傳動平穩(wěn)，噪音低。

2.切碎傳動采用電機直連結(jié)構(gòu)，采用了游動支撐方式，并通過彈性連接，減小振動和噪音。

SMG系列濕法混合制粒機，是制藥工業(yè)普遍使用的固體制劑生產(chǎn)工藝流程的設(shè)備之一。它具有混合、制粒等多種功能，主要用于粘性較大的粉狀物料及干粉狀物料的產(chǎn)品，廣泛應用于藥品、食品、化工等行業(yè)。

原理：物料通過加料機及真空上料系統(tǒng)加入攪拌容器中。物料經(jīng)攪拌作用多維切變成流動狀態(tài)充分混合，然后經(jīng)噴槍系統(tǒng)注入粘合劑，在攪拌和切刀的作用下制成均勻濕顆粒。顆粒經(jīng)過出料口出料并轉(zhuǎn)入下一道工序。

SMG系列濕法混合制粒機是我公司在廣泛研究、吸收、消化國外先進機型的基礎(chǔ)上，結(jié)合我國國情精心設(shè)計、成功開發(fā)的新型混合制粒機。

? 該機采用奧氏體不銹鋼制造，所有轉(zhuǎn)角圓弧過渡、無死角、不殘留、無任何凹凸面、外露螺釘。

? 內(nèi)外表面經(jīng)高度拋光，內(nèi)表面內(nèi)表面粗糙度達到Ra≤0.2μm，外表面亞光處理，粗糙度達到Ra≤0.4μm，易于清洗。

? 該機采用PLC控制系統(tǒng)，全部操作可根據(jù)用戶要求設(shè)定工藝參數(shù)自動完成，并能自動打印所有工藝參數(shù)，原始記錄真實可靠。

? 完全符合藥品生產(chǎn)的GMP要求。