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金屬試樣表面各組成相的電化學電位不同,形成了許多微電勢,在化學溶液中會產(chǎn)生不均勻溶解。在溶解過程中試樣面表層會產(chǎn)生一層氧化膜,試樣表面凸出部分由于 粘膜薄,金屬的溶解擴展速度較慢,拋光后的表面光滑,但形成有小的起伏波形,不能達到十分理想的要求?;瘜W拋光對金屬表面的整平程度是十分均勻的,同時經(jīng)化學拋光后的表面比機械拋光的表面光亮度具有更優(yōu)越的耐久性。
化學拋光是一種將金相樣品浸入調配的化學拋光液中,借化學藥劑的溶解作用而得到的拋光表面的拋光方法?;瘜W拋光是常見的金相樣品拋光方法之一,這種方法操作簡便,不需任何儀器設備,只需要選擇適當?shù)幕瘜W拋光液和掌握很好的拋光規(guī)范,就能快速得到較理想的光潔而無變形層的表面。化學拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果,其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質上沒有太大差別。
化學拋光是指在合適的溶液中,不使用外接電源,依靠化學侵蝕作用對工件進行的拋光,在化學拋光過程中,由于金屬微觀表面形成了不均勻的鈍化膜,或由于形成了類似電解拋光過程中所形成的稠質黏膜,從而使表面微觀凸出部分的溶解速度顯著大于微觀凹入部分,因此降低了零件的表面顯微粗糙程度,使零件表面比較光亮和平整?;瘜W拋光廣泛應用于不銹鋼、銅及鋁合金等的拋光,還用于對一些零件做裝飾加工?;瘜W拋光可作為電鍍前的處理工序,也可在拋光后輔以必要的防護措施而直接使用?;瘜W拋光是陽極氧化過程中不可少的一個步驟,陽極氧化鋁及鋁合金化學拋光中有時候會出現(xiàn)的缺陷,我們應采取糾正措施,糾正措施是在生產(chǎn)的發(fā)展過程中不斷總結完善的。