派瑞林Parylene涂層不僅電性能和防護(hù)性能好，而且生物相溶性也好，它已通過美國(guó)FDA論證，滿足美國(guó)藥典生物材料VI類標(biāo)準(zhǔn)，被列為是一種可以在體內(nèi)長(zhǎng)期植入使用的生物材料。

       有些具有需小心保護(hù)的內(nèi)部電子元件（植入式或外部），由于這些電子元件體積微小，沒有足夠的重量進(jìn)行沉降、噴涂或涂刷，一些微小的裝置還會(huì)受到氣隙、厚度不均等因素的不良影響，因此無法采用傳統(tǒng)的防護(hù)涂層。Parylene真空鍍膜以其良好的耐腐蝕、耐，、 低阻滯性、低摩擦系數(shù)及生物相容性，在國(guó)際臨床運(yùn)用的生物的表面涂層上，將逐步取代TiNi（鎳鈦）合金涂層而被列為材料。如骨釘、探針、針頭、臨時(shí)手術(shù)器械、導(dǎo)尿管、制動(dòng)器及耳蝸植入器，心臟起搏器、腦電極、植入式傳感器、射頻、血液分析傳感器和高頻手術(shù)刀等微型電子。

       隨著市場(chǎng)多元化的不斷需求，對(duì)于很多企業(yè)來說需要根據(jù)其產(chǎn)品的工序購(gòu)置不同的機(jī)器設(shè)備，拿真空鍍膜行業(yè)來說，如果一臺(tái)機(jī)器就能完成從鍍膜前處理到鍍膜后處理，中間不需要人工干預(yù)不需要轉(zhuǎn)換工序，那么無疑是企業(yè)的香餑餑，在單設(shè)備上實(shí)現(xiàn)一體化多功能成為了鍍膜設(shè)備行業(yè)企業(yè)的共同需求。

       真空鍍膜設(shè)備普遍應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，無論是小產(chǎn)品還是大產(chǎn)品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產(chǎn)品，基本上所有需要進(jìn)行表面處理鍍膜的都需要用到。在鍍膜方式上，比較普遍的是采用蒸發(fā)鍍或者磁控濺射鍍或者離子鍍，在控制技術(shù)上，更多的應(yīng)用先進(jìn)的計(jì)算機(jī)技術(shù)和微電子技術(shù)，使得真空鍍膜設(shè)備更具性和智能自動(dòng)化。

       真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子?xùn)|轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

       濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)(Ar)原子電離成氮離子(Ar)，離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在10-2pa~10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

       離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線方向運(yùn)動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。