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電子光刻膠公司常用解決方案

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發(fā)布時間:2020-11-15 09:34  






   光刻膠定義

光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。因為光刻膠的作用就是作為抗刻蝕層保護襯底表面。光刻膠只是一種形象的說法,因為光刻膠從外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當(dāng)紫外光或電子束的照射時,光刻膠材料本身的特性會發(fā)生改變,經(jīng)過顯影液顯影后,曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面,這樣就將設(shè)計的微納結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到了光刻膠上,而后續(xù)的刻蝕、沉積等工藝,就可進一步將此圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠下面的襯底上,然后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。  

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光刻膠的參數(shù)介紹

1.對比度(Contrast)

對比度指光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過渡的陡度。 對比度越好,越容易形成側(cè)壁陡直的圖形和較高的寬高比。

2.粘滯性/黏度 (Viscosity)

衡量光刻膠流動特性的參數(shù)。黏度通常可以使用光刻膠中聚合物的固體含量來控制。同一種光刻膠根據(jù)濃度不同可以有不同的黏度,而不同的黏度決定了該膠的不同的涂膠厚度。

3.抗蝕性(Anti-etching)

光刻膠必須保持它的粘附性,在后續(xù)的刻蝕工序中保護襯底表面。耐熱穩(wěn)定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力。  

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選擇光刻膠需要注意什么

光刻加工工藝中為了圖形轉(zhuǎn)移,輻照必須作用在光刻膠上,通過改變光刻膠材料的性質(zhì),使得在完成光刻工藝后,光刻版圖形被拷貝在圓片的表面。而加工前,如何選用光刻膠在很大程度上已經(jīng)決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是較好的,但實際應(yīng)用中由于加工類型、加工要求、加工成本的考慮,需要對光刻膠進行合理的選擇。

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