（氧化鐵）是歷早使用的拋光材料，但它的拋光速度慢，而且鐵銹色的污染也無(wú)法消除。隨著稀土工業(yè)的發(fā)展，于二十世紀(jì)30年代，首先在歐洲出現(xiàn)了用稀土氧化物作拋光粉來(lái)拋光玻璃。在第二次中，一個(gè)在伊利諾斯州羅克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇員，于1943年提出了一種叫做巴林士粉（Barnesite）的稀土氧化物拋光粉，這種拋光粉很快在拋光精密光學(xué)儀器方面獲得成功。由于稀土拋光粉具有拋光、質(zhì)量好、污染小等優(yōu)點(diǎn)，激起了美國(guó)等國(guó)家的群起研究。這樣，稀土拋光粉就以取代傳統(tǒng)拋光粉的趨勢(shì)迅速發(fā)展起來(lái)。

　國(guó)外于60年前開(kāi)始生產(chǎn)稀土拋光粉，二十世紀(jì)90年代已形成各種標(biāo)準(zhǔn)化、系列化的產(chǎn)品達(dá)30多種規(guī)格牌號(hào)。

　　目前，國(guó)外的稀土拋光粉生產(chǎn)廠家主要有15家（年生產(chǎn)能力為200噸以上者）。其中，法國(guó)羅地亞公司年生產(chǎn)能力為2200多噸。是目前大的稀土拋光粉生產(chǎn)廠家。美國(guó)的拋光粉年產(chǎn)量能力達(dá)1500噸以上。

。日本生產(chǎn)稀土拋光粉的原料采用氟碳礦、粗氯化和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產(chǎn)在燒結(jié)設(shè)備和技術(shù)上均具特色。1968年，我國(guó)在上海躍龍化工廠研制成功稀土拋光粉。






因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級(jí)稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤(pán)領(lǐng)域的應(yīng)用逐漸受到重視，產(chǎn)量逐年提高。納米級(jí)稀土拋光粉目前也已經(jīng)問(wèn)世，隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，其應(yīng)用前景不可預(yù)測(cè)，但目前其市場(chǎng)份額還很小，屬于研發(fā)階段。

原料→干法細(xì)磨→配料→混粉→焙燒→磨細(xì)篩分→低級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備：球磨機(jī)，混料機(jī)，焙燒爐，篩分機(jī)等。主要指標(biāo)：產(chǎn)品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;產(chǎn)品粒度為1.5μm~2.5μm.該產(chǎn)品適合于眼鏡片、電視機(jī)顯象管的高速拋光之用。目前，國(guó)內(nèi)生產(chǎn)的低級(jí)系稀土拋光粉的量，約占總產(chǎn)量的90%以上。