塑膠真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)入氣，氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。一般塑膠真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由于素材是塑料件，在注塑時會殘留空氣泡，有機(jī)氣體，而在放置時會吸入空氣中的水分．另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況．噴上一層底漆以后，會形成一個光滑平整的表面，并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的效果得以展現(xiàn)。納米涂層在顯微鏡上觀察有多個納米顆粒組成，相臨的納米顆粒之間形成極細(xì)小的氣孔，氣孔遠(yuǎn)小于水分子，表面氣孔產(chǎn)生氣墊效應(yīng)，從而托住水分子，達(dá)到斥水斥油污的目的，同時由于顆粒之間的不平整，導(dǎo)致水滴在膜層表面的接觸角變大，使水滴輕易的滑落。

晶格有序度的均勻性：

這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題，具體見下。

主要分類有兩個大種類：

蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等

一、對于蒸發(fā)鍍膜：

一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。

厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4、真空度

5、鍍膜時間，厚度大小。

組分均勻性：

蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

晶向均勻性：

1、晶格匹配度

2、基片溫度

3、蒸發(fā)速率

隨著信息產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展，磁性元件越來越趨向于小型化，3-5㎜的軟磁芯，2-3㎜的稀土永磁材料，甚至尺寸更小的磁材都不斷被應(yīng)用，對磁材的防護(hù)提出了新的要求。小型軟磁芯作饒線器件時，經(jīng)聚對二涂敷后能耐1500-2000V甚至更高的電壓，由于聚對二摩擦系數(shù)低，饒成操會更滑溜，不傷線，更便于操作，稀土釹鐵硼永磁材料是一種強(qiáng)磁材料，但這種材料在空氣中很不穩(wěn)定，尺寸較大的通常用電鍍或環(huán)氧電泳漆作防護(hù)涂層，尺寸較小的磁材，特別是環(huán)型和筒形的磁材，已不能用上述傳統(tǒng)方法實現(xiàn)可靠防護(hù)，滿足使用要求。Parylene獨(dú)特的制備工藝和優(yōu)異性能相結(jié)合，使它能對小型超小型磁材進(jìn)行無薄弱點全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國際上小型超小型磁材，幾乎都采用Parylene作絕緣和防護(hù)涂層。金手指鍍膜在金手指表面形成一層納米鍍膜，主要有如下作用：·降低鍍金層厚度甚至用鍍銀取代鍍金，大大降低生產(chǎn)成本·金手指表面不再擔(dān)心污染問題，所有臟污可以方便地清洗去除。