家外商獨(dú)資知識(shí)產(chǎn)權(quán)服務(wù)機(jī)構(gòu)落戶

3月19日，聯(lián)邦知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所（武漢）有限公司在光谷政務(wù)服務(wù)大廳領(lǐng)取營業(yè)執(zhí)照，標(biāo)志著我省家外商獨(dú)資、具有獨(dú)立法人資格的知識(shí)產(chǎn)權(quán)服務(wù)機(jī)構(gòu)，正式落戶湖北自貿(mào)區(qū)武漢片區(qū)。

美國聯(lián)邦知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所在多地設(shè)有分支機(jī)構(gòu)，主要為企業(yè)代理美國及世界各國專利、商標(biāo)、著作權(quán)申請(qǐng)，以及國際知識(shí)產(chǎn)權(quán)法律服務(wù)、專利資訊檢索、專利侵權(quán)、取締及執(zhí)行不公平競(jìng)爭、商業(yè)秘密，美國UL、FDA認(rèn)證等。

聯(lián)邦知識(shí)產(chǎn)權(quán)武漢公司總經(jīng)理丁國新稱，光谷創(chuàng)新型企業(yè)多，在專利保護(hù)上的意識(shí)也越來越強(qiáng)，許多高科技企業(yè)都在謀求全球布局，而專利護(hù)城河是步。

2018年，光谷PCT國際專利申請(qǐng)達(dá)1212件，同比增長53.4%，創(chuàng)歷史新高。

據(jù)介紹，過去我省沒有知識(shí)產(chǎn)權(quán)外資服務(wù)機(jī)構(gòu)，企業(yè)要想走出去，必須通過國內(nèi)代理機(jī)構(gòu)辦理海外專利申請(qǐng)，不僅時(shí)間慢，語言和法律等各方面都不夠適應(yīng)海外知識(shí)產(chǎn)權(quán)體系。

外商在不錯(cuò)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)服務(wù)業(yè)領(lǐng)域落戶，有利于光谷企業(yè)在中國申請(qǐng)美國專利，降低企業(yè)申請(qǐng)成本；也有助于帶動(dòng)本地知識(shí)產(chǎn)權(quán)服務(wù)業(yè)發(fā)展。

截至2018年底，國家的知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利審查協(xié)作湖北中心、知識(shí)產(chǎn)權(quán)審判庭、知識(shí)產(chǎn)權(quán)仲裁院、國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)運(yùn)營高校平臺(tái)、光電子知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)中心等多個(gè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)服務(wù)機(jī)構(gòu)，已相繼落戶光谷。

專利是公司甚至國家技術(shù)水平的重要指標(biāo)。擁有的專利越多，技術(shù)或設(shè)計(jì)就越多。在專利申請(qǐng)方面，中國超過日本成為2010年專利申請(qǐng)人，但中國公司面臨的問題是，申請(qǐng)專利后，他們不會(huì)長期維持這些專利，第五個(gè)專利的比例放棄一年高達(dá)91％。這意味著超過90％的專利將會(huì)丟失，其根本原因在于這些專利實(shí)際上是無用的，因此申請(qǐng)人不愿意花錢來維持專利有效性。布隆伯格近發(fā)表了一篇介紹中國專利損失問題的文章，指出中國在2010年超過日本成為一個(gè)大的專利申請(qǐng)國。從那時(shí)起，它一直保持著專利申請(qǐng)的良好地位。去年只批準(zhǔn)了180萬項(xiàng)專利。應(yīng)用。在中國，專利申請(qǐng)分為三個(gè)方面：發(fā)明，實(shí)用新型和設(shè)計(jì)。其中，發(fā)明專利符合每個(gè)人都真正理解的專利概念，但這僅占中國專利申請(qǐng)數(shù)量的23％。申請(qǐng)發(fā)明專利的審批程序?yàn)?8個(gè)月。它還需要進(jìn)行測(cè)試和驗(yàn)證。申請(qǐng)成功后，將有20年的專利保護(hù)期。另外兩種專利類型要簡單得多，但它們也有10年的保護(hù)期。

專利申請(qǐng)的流程和所需材料是什么？ 1.專利申請(qǐng)批準(zhǔn)程序?qū)＠暾?qǐng) - 驗(yàn)收 - 初始審查 - 公告 - 實(shí)質(zhì)性審查請(qǐng)求 - 實(shí)質(zhì)性審查 - 授權(quán)。 2.提交專利申請(qǐng)的文件：1請(qǐng)求：包括發(fā)明專利的名稱，發(fā)明人或設(shè)計(jì)者的姓名，申請(qǐng)人的姓名和地址，以及地址。 2描述：發(fā)明專利的名稱，技術(shù)領(lǐng)域，背景技術(shù)，發(fā)明內(nèi)容，附圖說明和具體實(shí)施方式。 3權(quán)利要求：描述了本發(fā)明的技術(shù)特征，并且清楚且簡要地描述了所要求保護(hù)的內(nèi)容。附圖說明：發(fā)明專利通常具有附圖。如果只有文本足以清楚和完整地描述技術(shù)解決方案，那么可能沒有圖紙。