蒸發(fā)真空鍍膜機的原理及性能,你了解多少?

電鍍設備真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。從蒸發(fā)源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。排氣系統(tǒng)一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。目前所用的蒸發(fā)源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、電弧加熱和激光加熱等多種形式。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。

為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經常采用的運動方式。蒸發(fā)鍍膜機主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設備四部分組成。

蒸發(fā)物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等片置于坩堝前方。通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。電氣設備包括測量真空和膜層厚度及控制臺等。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時間內獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產生的氣體。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。蒸發(fā)物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。蒸發(fā)式真空鍍膜機常用蒸發(fā)源是用來加熱膜材使之汽化蒸發(fā)的裝置。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼制作，有水冷卻裝置。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發(fā)。蒸發(fā)系統(tǒng)包括蒸發(fā)源和加熱蒸發(fā)源的電氣設備。

瓷磚真空鍍膜設備

經瓷磚真空鍍膜設備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數(shù)大大提高，可以生產仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層。瓷磚真空鍍膜設備主要用于瓷磚、瓷片、陶瓷磚等離子鍍膜。該系列設備主要配置為陰極電弧蒸發(fā)源，也有配偏壓電源，也有配磁控濺射靶。設備特點：配強大抽氣系統(tǒng)，抽氣快，裝載量大，產能高，生產成本低?？梢陨a仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層；采用貼花紙和涂覆水溶性涂料遮擋技術可以得到各種彩色花紋圖案。經瓷磚真空鍍膜設備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數(shù)大大提高。

切削工具真空鍍膜機

切削工具真空鍍膜機可以提高工具的切削速度和給刀量，降低加工的時間和成本，更長的使用壽命降低了工具更換的成本，涂層具備的熱穩(wěn)定性、熱硬度和能力、低摩擦系數(shù)和低粘附傾向。真空鍍室的真空密封和室內運動部件的設計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發(fā)源，或配多個矩形平面電弧蒸發(fā)源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優(yōu)異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應活性，提高膜層致密性和結合力。工件可三維運動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩(wěn)定性。