電子束鍍膜與電阻鍍膜的區(qū)別

電子束蒸鍍與利用電阻進行蒸鍍的優(yōu)勢在于：可以為待蒸發(fā)的物質提供更高的熱量，因此蒸鍍的速率也更快；電子束定位準確，可以避免坩堝材料的蒸發(fā)和污染。但是由于蒸鍍過程中需要持續(xù)水冷，對能量的利用率不高；而且由于高能電子可能帶來的二次電子可能使殘余的氣體分子電離，也有可能帶來污染。此外，大多數(shù)的化合物薄膜在被高能電子轟擊時會發(fā)生分解，這影響了薄膜的成分和結構 。電子束蒸發(fā)鍍膜機產品介紹想要了解更多電子束產品的相關內容，請及時關注沈陽鵬程真空技術有限責任公司網(wǎng)站。

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電子束蒸發(fā)鍍膜機產品介紹

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產品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸： 1片Φ8英寸或5片Φ4英寸或傘形工件架（用戶定制）

★蒸發(fā)材料：金屬；非金屬；化合物等薄膜材料。

★蒸發(fā)腔體：高真空系統(tǒng)。

★蒸發(fā)不均勻性：≤±3%-±5％

★工件架：可旋轉，轉速可調

★加熱：常規(guī)加熱

★電子槍：E型，帶XY偏轉掃描

★電子槍坩堝：6穴，17cc

★膜厚監(jiān)控功能：石英晶控膜厚在線監(jiān)測與終點控制

★清洗功能：可選配離子源清洗

★器件一次成型復合實驗系統(tǒng)：通過復合mask系統(tǒng)與樣品對準系統(tǒng)，一次完成器件的多個工藝步驟

★檢測與控制光學特性的功能：可選配光控儀

★操作模式：全自動 半自動控制