特種氣體分類：高純氣體通常指利用現(xiàn)代提純技術(shù)能達(dá)到的某個等級純 度的氣體，對于不同類別的氣體，純度指標(biāo)不同，大多用于超大規(guī)模集成電路及分離器 件、光電子等高科技領(lǐng)域；特種氣體在太陽能電池中的應(yīng)用：晶體硅電池片生產(chǎn)中的擴(kuò)散工藝用 到 POCl3 和 O2，減反射層 PECVD 工藝用到 SiH4、NH3，刻蝕工藝用到 CF4；20 世紀(jì) 80 年代，電子產(chǎn) 業(yè)的興起推動特種氣體的需求提高，隨著氣體供應(yīng)商供氣模式的引入，國內(nèi) 企業(yè)原有的氣體車間、氣體廠和供氣站等紛紛發(fā)展為獨立的氣體公司，國內(nèi)特種氣體市 場逐步發(fā)展起來。

 特種氣體分類：標(biāo)準(zhǔn)氣體嚴(yán)格意義上應(yīng)稱為標(biāo)準(zhǔn)校正氣體，是一種高度均勻， 穩(wěn)定性良好和量值準(zhǔn)確的氣體，可分為單元標(biāo)準(zhǔn)氣體和多元標(biāo)準(zhǔn)氣體，目前標(biāo)準(zhǔn)氣基本 滿足了我國石油、化工、環(huán)保、傳感器校核等諸多領(lǐng)域的需求，我國特種氣體行業(yè)在 2006 年后進(jìn)入快速發(fā)展階段，廣泛應(yīng)用于集成電路、顯示面 板、光伏能源、光纖光纜、新能源汽車、航空航天、環(huán)保等新興產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域，特種標(biāo)準(zhǔn)氣體嚴(yán)格意義上應(yīng)稱為標(biāo)準(zhǔn)校正氣體，是一種高度均勻，穩(wěn)定性良好和量值準(zhǔn)確的氣體，它可以是單一的純氣體或高純氣體，也可以是由多組分氣體配制而成的混合氣體。標(biāo)準(zhǔn)氣體屬于標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)之一，故又稱為氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。

 特種氣體在集成電路領(lǐng)域的應(yīng)用：特種氣體是半導(dǎo)體材料制造過程不可缺少的基硅性支撐材料，處于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的 上游，被稱為半導(dǎo)體的“源”，主要應(yīng)用于薄膜、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴(kuò)散等工藝。特種氣體分類：標(biāo)準(zhǔn)氣體嚴(yán)格意義上應(yīng)稱為標(biāo)準(zhǔn)校正氣體，是一種高度均勻， 穩(wěn)定性良好和量值準(zhǔn)確的氣體，可分為單元標(biāo)準(zhǔn)氣體和多元標(biāo)準(zhǔn)氣體，目前標(biāo)準(zhǔn)氣基本 滿足了我國石油、化工、環(huán)保、傳感器校核等諸多領(lǐng)域的需求，特種氣體在太陽能電池中的應(yīng)用：非晶硅太陽能 電池在 LPCVD 沉積 TCO 工序用到 DEZn、B2H6；非晶/微晶硅沉積工序用到 SiH4、PH3/H2、 TMB/H2、CH4、NF3 等。